[發(fā)明專利]液浸曝光裝置及其制造方法、曝光裝置、器件制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110268975.9
• 申請日: 2004-07-26
• 公開（公告）號: CN102323724A
• 公開（公告）日: 2012-01-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 馬込伸貴;小林直行;榊原康之;高巖宏明
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標事務(wù)所 11038
• 代理人: 許海蘭

1.一種液浸曝光裝置，通過投影光學系統(tǒng)與液體進行曝光，其特征在于，包含：

物體，可相對該投影光學系統(tǒng)移動；

液浸系統(tǒng)，通過供給流路將該液體供給至該投影光學系統(tǒng)下且將供給后的該液體從回收流路回收，介此在該投影光學系統(tǒng)與該物體上的一部分之間維持液浸區(qū)域；以及

控制裝置，與未從該回收流路回收而引起該液體從該液浸區(qū)域流出的狀態(tài)的異常對應(yīng)，控制該液浸系統(tǒng)以限制對該液浸區(qū)域的該液體的供給。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液浸曝光裝置，其中，該物體包含支承供圖案投影的基板的基板臺。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的液浸曝光裝置，其中，在該基板與該投影光學系統(tǒng)之間形成該液浸區(qū)域。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液浸曝光裝置，其中，該異常包含該液浸系統(tǒng)產(chǎn)生的異常。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的液浸曝光裝置，其中，該液浸系統(tǒng)包含液體回收機構(gòu)，該液體回收機構(gòu)包含該回收流路；

該異常包含該液體回收機構(gòu)的異常。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的液浸曝光裝置，其中，該液體回收機構(gòu)的異常包含該液體回收機構(gòu)的回收動作的異常。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的液浸曝光裝置，其中，該回收動作的異常根據(jù)介由該液體回收機構(gòu)回收的液體回收量與介由該液體供給機構(gòu)供給的液體供給量決定。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液浸曝光裝置，其中，該異常包含關(guān)于該物體的位置控制的異常。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的液浸曝光裝置，其進一步具備檢測該物體的位置的位置檢測裝置；

該異常包含該位置檢測裝置的錯誤。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的液浸曝光裝置，其進一步具備檢測該物體的位置的位置檢測裝置；

該異常包含該位置檢測裝置檢測出的該物體的位置的異常。

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的液浸曝光裝置，其進一步具備進行該物體的該位置控制的位置控制系統(tǒng)；

該異常包含該位置控制系統(tǒng)產(chǎn)生的異常。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液浸曝光裝置，其中，該限制包含停止對該液浸區(qū)域的該液體的供給。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的液浸曝光裝置，其中，在該供給流路的既定位置配置開閉構(gòu)件；

介由關(guān)閉該開閉構(gòu)件停止經(jīng)由該供給流路的該液體的供給。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的液浸曝光裝置，其中，該開閉構(gòu)件包含常閉方式的閥。

15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液浸曝光裝置，其中，該物體包含支承基板的基板臺；

進一步包含回收機構(gòu)，該回收機構(gòu)回收流入至該基板臺的上面與該基板之間的間隙的該液體。

16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的液浸曝光裝置，其中，該基板臺的上面與該基板的表面實質(zhì)上高度相同。

17.根據(jù)權(quán)利要求1或15所述的液浸曝光裝置，其中，將周圍的氣體與該液體一起回收。

18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的液浸曝光裝置，其進一步具備從回收后的該液體將該氣體分離的氣液分離器。

19.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液浸曝光裝置，其中，該異常包含在該投影光學系統(tǒng)之下無法保持該液體時。

20.根據(jù)權(quán)利要求15所述的液浸曝光裝置，其中，在該液體流出至該基板的外側(cè)時，限制該液體的供給。

21.根據(jù)權(quán)利要求15所述的液浸曝光裝置，其進一步具備檢測從該基板臺上流出的該液體的檢測器。

22.一種液浸曝光裝置的制造方法，該液浸曝光裝置通過投影光學系統(tǒng)與液體進行曝光，其特征在于，包含：

設(shè)置物體的動作，該物體可相對該投影光學系統(tǒng)移動；

設(shè)置液浸系統(tǒng)的動作，該液浸系統(tǒng)通過供給流路將該液體供給至該投影光學系統(tǒng)下且將供給后的該液體從回收流路回收，介此在該投影光學系統(tǒng)與該物體上的一部分之間維持液浸區(qū)域；以及

設(shè)置控制裝置的動作，該控制裝置與未從該回收流路回收而引起該液體從該液浸區(qū)域流出的狀態(tài)的異常對應(yīng)，控制該液浸系統(tǒng)以限制對該液浸區(qū)域的該液體的供給。