[發明專利]鏡片及具有該鏡片的鏡頭模組

有效

• 申請號: 201110268969.3
• 申請日: 2011-09-13
• 公開（公告）號: CN102998724A
• 公開（公告）日: 2013-03-27
• 發明（設計）人: 林君鴻;蔡泰生;簡士哲
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: G02B3/02
• 分類號: G02B3/02;G02B1/11;G02B7/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種鏡片，該鏡片包括光學部和環繞該光學部的非光學部，該光學部用于允許光線穿透以實現光學成像，該光學部具有相對的第一表面和第二表面，該第一表面的曲率大于零，且該第一表面沉積有抗反射膜，其特征在于，該抗反射膜在400nm-850nm的波長范圍內的反射率小于2%，該光學部在420nm-650nm的波長范圍內反射率小于2%。

2.如權利要求1所述的鏡片，其特征在于，該抗反射膜在400nm-1000nm的波長范圍內的反射率小于2%。

3.如權利要求1所述的鏡片，其特征在于，該抗反射膜由高折射率材料的薄膜和低折射率材料的薄膜交替疊加而成。

4.如權利要求3所述的鏡片，其特征在于，該抗反射膜包括依次沉積在該第一表面的第一至第八薄膜，所述第一至第八薄膜分別為：以二氧化鈦為材料的膜厚為8.84nm的第一薄膜、以二氧化硅為材料的膜厚為46.07nm的第二薄膜、以二氧化鈦為材料的膜厚為27.57nm的第三薄膜、以二氧化硅為材料的膜厚為20.39nm的第四薄膜、以二氧化鈦為材料的膜厚為75.34nm的第五薄膜、以二氧化硅為材料的膜厚為13.68nm的第六薄膜、以二氧化鈦為材料的膜厚為29.06nm的第七薄膜以及以二氧化硅為材料的膜厚為100.33nm的第八薄膜。

5.如權利要求3所述的鏡片，其特征在于，該抗反射膜包括依次沉積在該第一表面的第一至第八薄膜，所述第一至第八薄膜分別為：以二氧化鈦為材料的膜厚為13.80nm的第一薄膜、以二氧化硅為材料的膜厚為43.70nm的第二薄膜、以二氧化鈦為材料的膜厚為37.65nm的第三薄膜、以二氧化硅為材料的膜厚為15.97nm的第四薄膜、以二氧化鈦為材料的膜厚為90.79nm的第五薄膜、以二氧化硅為材料的膜厚為18.81nm的第六薄膜、以二氧化鈦為材料的膜厚為30.13nm的第七薄膜以及以二氧化硅為材料的膜厚為109.95nm的第八薄膜。

6.如權利要求1所述的鏡片，其特征在于，該第一表面為非球面。

7.如權利要求1所述的鏡片，其特征在于，該第二表面進一步沉積有該抗反射膜。

8.如權利要求1所述的鏡片，其特征在于，該非光學部包括相對的第三表面和第四表面，該第三表面與該第一表面相連接，該第四表面與該第二表面相連接，該第三表面進一步沉積有該抗反射膜。

9.如權利要求8所述的鏡片，其特征在于，該第二表面和該第四表面進一步沉積有該抗反射膜。

10.一種鏡頭模組，其包括鏡筒及權利要求1-9任一項所述的鏡片，該鏡片收容在該鏡筒內。