[發明專利]一種直接電化學氧化制備福美雙的方法

無效

• 申請號: 201110268550.8
• 申請日: 2011-09-13
• 公開（公告）號: CN102321890A
• 公開（公告）日: 2012-01-18
• 發明（設計）人: 楊化濱;房智明
• 申請（專利權）人: 南開大學
• 主分類號: C25B3/02
• 分類號: C25B3/02
• 代理公司: 天津佳盟知識產權代理有限公司 12002
• 代理人: 侯力

1.一種直接電化學氧化制備福美雙的方法，其特征在于步驟如下：

1）將氫氧化鈉水溶液和二甲胺水溶液混合后，在10-20℃條件下以1滴/2秒的速率緩慢滴加二硫化碳水溶液，調節pH值為8-10，反應結束后靜置12h，制得福美鈉水溶液；

2）利用帶有隔膜的電解槽陽極室對福美鈉水溶液進行直接電化學氧化，即將上述制得的福美鈉水溶液注入到隔膜電解槽陽極室，將NaOH水溶液注入到隔膜電解槽陰極室，獲得陽極產物；

3）將上述陽極產物過濾、水洗、60℃烘干、粉碎后，即可制得福美雙原粉。

2.根據權利要求1所述直接電化學氧化制備福美雙的方法，其特征在于：所述氫氧化鈉水溶液的重量百分比濃度為30%；二甲胺水溶液的重量百分比濃度為40%；二硫化碳水溶液的重量百分比濃度為98%。

3.根據權利要求1所述直接電化學氧化制備福美雙的方法，其特征在于：所述氫氧化鈉、二甲胺和二硫化碳的摩爾比為1:1:1。

4.根據權利要求1所述直接電化學氧化制備福美雙的方法，其特征在于：所述注入陽極室的福美鈉水溶液的重量百分比濃度為10%-40%；注入陰極室的NaOH水溶液的濃度為20g-60g·L^-1。

5.根據權利要求1所述直接電化學氧化制備福美雙的方法，其特征在于：所述帶有隔膜的電解槽進行直接電化學氧化的工藝參數：電流密度為300-600mA·cm^-2、電解溫度為30-70℃、電解時間為0.5-2小時。