[發(fā)明專利]基坑止水帷幕隱伏滲漏點檢測方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110267962.X | 申請日: | 2011-09-09 |
| 公開(公告)號: | CN102392461A | 公開(公告)日: | 2012-03-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 柳獻(xiàn);黃鐘暉;謝雄耀;楊新文;劉濤;袁勇 | 申請(專利權(quán))人: | 同濟(jì)大學(xué) |
| 主分類號: | E02D33/00 | 分類號: | E02D33/00;E02D19/18;G01M3/40 |
| 代理公司: | 上海智信專利代理有限公司 31002 | 代理人: | 吳林松;周醒 |
| 地址: | 200092 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基坑 止水 帷幕 隱伏 滲漏 檢測 方法 | ||
1.一種基坑止水帷幕隱伏滲漏點檢測方法,其特征在于:其包括:
在基坑外部,沿止水帷幕平行方向,距離止水帷幕定長距離處布設(shè)測點;
在基坑內(nèi)部降水前,探測測點處的土層電阻率;
在基坑內(nèi)部降水后,探測測點處的土層電阻率;
若土層電阻率前后發(fā)生突變,則該測點處即為隱伏滲漏點的位置。
2.如權(quán)利要求1所述的基坑止水帷幕隱伏滲漏點檢測方法,其特征在于:所述距離止水帷幕的定長距離為0.8-1.2m。
3.如權(quán)利要求1所述的基坑止水帷幕隱伏滲漏點檢測方法,其特征在于:所述布設(shè)的測點,其相鄰測點之間間距為在20-200cm。
4.如權(quán)利要求1所述的基坑止水帷幕隱伏滲漏點檢測方法,其特征在于:所述探測測點處的土層電阻率是采用電阻率測深法勘探。
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