[發明專利]介質處理裝置、介質處理裝置的控制方法及記錄介質

有效

• 申請號: 201110266964.7
• 申請日: 2011-09-09
• 公開（公告）號: CN102407693A
• 公開（公告）日: 2012-04-11
• 發明（設計）人: 牛山佳樹
• 申請（專利權）人: 精工愛普生株式會社
• 主分類號: B41J19/18
• 分類號: B41J19/18;B41J15/00;B41J29/38
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 雒運樸

1.一種介質處理裝置，其特征在于，

具備輸送記錄介質的輸送路，

在所述輸送路的一側具備：

第一記錄頭，其向所述記錄介質的一個面進行記錄；

第一滑架，其搭載所述第一記錄頭；

第一移動部，其移動第一滑架軸上的所述第一滑架；

第一標尺，其以規定間隔形成有多個規定寬度的第一狹縫且在一端形成有寬度與所述第一狹縫的寬度不同的第二狹縫；

第一檢測部，其搭載在所述第一滑架上，檢測所述第一標尺的所述第一狹縫和所述第二狹縫，

在所述輸送路的另一側具備：

第二記錄頭，其向所述記錄介質的另一面進行記錄；

第二滑架，其搭載所述第二記錄頭；

第二移動部，其移動第二滑架軸上的所述第二滑架；

第二標尺，其以規定間隔形成有多個規定寬度的第三狹縫且在一端形成有寬度與所述第三狹縫的寬度不同的第四狹縫；

第二檢測部，其搭載在所述第二滑架上，檢測所述第二標尺的所述第三狹縫和所述第四狹縫，

所述第一標尺和所述第二標尺配置成所述第一標尺的配置有所述第二狹縫的一側和所述第二標尺的配置有所述第四狹縫的一側以隔著所述輸送路的方式位于所述輸送路對所述輸送介質的輸送方向上的相同側。

2.根據權利要求1所述的介質處理裝置，其特征在于，

具備控制部，

所述控制部驅動所述第一移動部，使所述第一滑架在向離開所述第一標尺的所述一端的方向移動第一規定距離后，再反向移動直至至少所述第一檢測部檢測到所述第二狹縫，根據檢測到所述第二狹縫的位置來設定所述第一滑架的原始定位，

所述控制部驅動所述第二移動部，使所述第二滑架在向離開所述第二標尺的所述一端的方向移動第二規定距離后，再反向移動直至至少所述第二檢測部檢測到所述第四狹縫，根據檢測到所述第四狹縫的位置來設定所述第二滑架的原始定位。

3.根據權利要求1所述的介質處理裝置，其特征在于，

所述第一移動部具備第一步進電動機，

所述控制部根據驅動了所述第一步進電動機的第一步長數和所述第一檢測部對所述第一狹縫檢測而取得的所述第一滑架移動的距離來進行所述第一移動部的移動不良檢測，

所述第二移動部具備第二步進電動機，

所述控制部根據驅動了所述第二步進電動機的第二步長數和所述第二檢測部對所述第三狹縫進行檢測而取得的所述第二滑架移動的距離來進行所述第二移動部的移動不良檢測。

4.根據權利要求3所述的介質處理裝置，其特征在于，

所述控制部在所述第一滑架或所述第二滑架進行加速或減速時不進行所述移動不良檢測。

5.根據權利要求1所述的介質處理裝置，其特征在于，

所述第一標尺的所述第一狹縫與所述第二標尺的所述第三狹縫具有相同的寬度，

所述第一標尺的所述第二狹縫與所述第二標尺的所述第四狹縫具有相同的寬度。

6.根據權利要求1所述的介質處理裝置，其特征在于，

所述控制部僅在所述第一移動部或所述第二移動部的驅動中對所述第一檢測部或所述第二移動部進行電力供給。

7.根據權利要求1所述的介質處理裝置，其特征在于，

所述第一規定距離是至少比將所述第一狹縫的寬度、所述第二狹縫的寬度及該第一狹縫與第二狹縫的間隔相加得到的距離長的距離，

所述第二規定距離是至少比將所述第三狹縫的寬度、所述第四狹縫的寬度及該第三狹縫與第四狹縫的間隔相加得到的距離長的距離。

8.根據權利要求1所述的介質處理裝置，其特征在于，

所述記錄介質為記錄有磁墨文字的支票，

在所述輸送路上具備讀取所述支票的所述磁墨文字的讀取部，

所述第一記錄頭在所述輸送路中配置在與所述讀取部相反的一側，根據所述第一滑架的原始定位向所述支票的未記錄有所述磁墨文字的面進行記錄，

所述第二記錄頭在所述輸送路中配置在與所述讀取部相同的一側，根據所述第二滑架的原始定位向所述支票的記錄有所述磁墨文字的面進行記錄。