[發明專利]一種用于整片晶圓納米壓印自適應承片臺

有效

• 申請號: 201110266266.7
• 申請日: 2011-09-08
• 公開（公告）號: CN102269930A
• 公開（公告）日: 2011-12-07
• 發明（設計）人: 蘭紅波;丁玉成
• 申請（專利權）人: 青島理工大學
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00
• 代理公司: 濟南圣達知識產權代理有限公司 37221
• 代理人: 張勇

1.一種用于整片晶圓納米壓印自適應承片臺，其特征是，它包括：固定基座(1)、浮動底座(2)、真空吸盤(3)和真空管路(4)，其中，浮動底座(2)位于固定基座(1)之上；真空吸盤(3)固定于浮動底座(2)的上平面；固定基座(1)中設有水平管路(103)，真空管路(4)包括真空管路I(401)和真空管路II(402)，真空吸盤3上設有水平進氣口；水平管路(103)與真空管路I(401)相連，水平進氣口與真空管路II(402)相連。

2.如權利要求1所述的一種用于整片晶圓納米壓印自適應承片臺，其特征是，所述固定基座(1)具有凹形球形結構(101)，浮動底座(2)具有凸形球形結構(201)，固定基座(1)與浮動底座(2)之間為半球形接觸。

3.如權利要求1或2所述的一種用于整片晶圓納米壓印自適應承片臺，其特征是，所述固定基座(1)內還設有垂直管路(102)，固定基座(1)中央設有中心圓形通孔(104)，中心圓形通孔(104)下方設有內圓形通孔(105)，內圓形通孔(105)分別與中心圓形通孔(104)、水平管路(103)以及垂直管路(102)相通；垂直管路(102)最上端與凹形球形結構(101)相通，垂直管路(102)最下端與內圓形通孔(105)相通。