[發明專利]將目標點陣字體轉化成目標輪廓字體的方法及系統無效
| 申請號: | 201110266188.0 | 申請日: | 2011-09-08 |
| 公開(公告)號: | CN102456231A | 公開(公告)日: | 2012-05-16 |
| 發明(設計)人: | 鄭國揚 | 申請(專利權)人: | 威鋒數位開發股份有限公司 |
| 主分類號: | G06T11/20 | 分類號: | G06T11/20 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 宋焰琴 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 目標 點陣 字體 轉化 輪廓 方法 系統 | ||
1.一種將目標點陣字體轉化成目標輪廓字體的方法,其特征在于,使得目標輪廓字體經一個標準字體引擎處理后,會產生目標灰度點陣字體的輪廓字體,該方法包含:
步驟S1,接收一個可產生目標點陣字體的點陣輪廓字體,其中的點陣輪廓字體的輪廓形狀至少包含一條或更多條的曲線段;
步驟S2,布置接收到的點陣輪廓形狀和目標點陣字體成為一個晶格坐標系統,其中晶格的數目以及結構是和點陣里的點的數目以及結構一致;
步驟S3,紀錄在晶格坐標里輪廓形狀上的一條或更多條曲線段和點陣里的點的相交點;
步驟S4,運作圖形保真的算法于這些相交點上輪廓形狀覆蓋其上的面積,得到相交點的目標灰度值;
步驟S5,紀錄所有相交點的目標灰度值,成為一個目標灰度值的點陣字體。
2.根據本發明權利要求1的將目標點陣字體轉化成目標輪廓字體的方法,其特征在于,所述目標點陣字體轉化是由點陣輪廓字體輸入一個標準字體引擎所產生的。
3.根據權利要求1的將目標點陣字體轉化成目標輪廓字體的方法,其特征在于,所述的步驟S5之后更進一步的包含:
步驟S6,移動在晶格坐標系上的相交點,以取得和步驟S4所取得相交點的目標灰度值一致的結果;
步驟S7,取得逼近移動后相交點的貝塞爾曲線段;以及
步驟S8,紀錄步驟S7所取得逼近貝塞爾曲線段成為目標輪廓字體。
4.根據權利要求3的將目標點陣字體轉化成目標輪廓字體的方法,其特征在于,所述移動在晶格坐標系上的相交點,以取得和步驟S4所取得相交點的目標灰度值一致的結果,是根據一些預先設定的規則。
5.根據權利要求4的將目標點陣字體轉化成目標輪廓字體的方法,其特征在于,所述預先設定的規則更進一步的包含:
一個規則是移動晶格橫向邊的相交點,僅能在晶格橫向邊上移動相交點;以及
一個規則是移動晶格豎向邊的相交點,僅能在晶格豎向邊上移動相交點。
6.根據權利要求4的將目標點陣字體轉化成目標輪廓字體的方法,其特征在于,所述移動在晶格坐標系上的相交點,以取得目標灰度值更進一步的包含:
一個規則是視曲線段和晶格邊線相交的不同情況,決定不同輪廓覆蓋點陣點面積比例值得方程式;
一個規則是視曲線段和晶格邊線相交的橫向或豎向的不同屬性,決定方程式里的曲線式;
一個規則是視那條曲線段和晶格邊線相交,決定方程式里該條曲線式的變量。
7.根據本發明權利要求1的將目標點陣字體轉化成目標輪廓字體的方法,其特征在于,取得以貝塞爾曲線逼近目標輪廓曲線上的取樣點的步驟,進一步地包含:
在二個相鄰特征點間構造一條二次貝塞爾曲線段逼近其間所有取樣點,如果還有取樣點偏離該條貝塞爾曲線時超過誤差容忍值;則
在貝塞爾曲線段的中點將取樣點分成二個區段,重新構造分別的二次貝塞爾曲線段,并測試每條曲線的逼近情況是否已經滿足小于誤差值的要求,如果是則該段曲線不再分割,否則將該條曲線段繼續分割成二段,如此反復進行分割運算,直至細分后的每段曲線皆已滿足要求后,得到一棵切割二次貝塞爾曲線段的二分樹結構;
依從左至右追蹤二分樹的葉節點取得該二個特征點間的各個貝塞爾曲線段。
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