[發明專利]光掩膜版用方形石英玻璃基片的制備方法無效
| 申請號： | 201110266100.5 | 申請日： | 2011-09-08 |
| 公開（公告）號： | CN102320724A | 公開（公告）日： | 2012-01-18 |
| 發明（設計）人： | 王友軍;孔敏;徐馳;王佳佳;向在奎;王鑫 | 申請（專利權）人： | 北京金格蘭石英玻璃有限公司 |
| 主分類號： | C03B20/00 | 分類號： | C03B20/00 |
| 代理公司： | 北京凱特來知識產權代理有限公司 11260 | 代理人： | 鄭立明;趙鎮勇 |
| 地址： | 100024 北*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光掩膜版用 方形 石英玻璃 制備 方法 | ||
1.一種光掩膜版用方形石英玻璃基片的制備方法，其特征在于，包括步驟：
首先，以SiCl4為原料合成高純圓柱形石英玻璃坨體；
然后，將所述圓柱形石英玻璃坨體放在真空加壓爐內進行槽沉均化、精密退火，制成方形坨體；
之后，將所述方形坨體經切割、研磨、拋光制成石英玻璃基片。
2.根據權利要求1所述的光掩膜版用方形石英玻璃基片的制備方法，其特征在于，所述真空加壓爐包括帶冷卻循環水爐體、帶冷卻循環水爐底板、帶冷卻循環水爐蓋，真空加壓爐內設有槽沉成型用的方形石墨坩堝，方形石墨坩堝外周設有石墨發熱體；
所述真空加壓爐連接有真空系統和氮氣加壓系統。
3.根據權利要求2所述的光掩膜版用方形石英玻璃基片的制備方法，其特征在于，所述槽沉均化、精密退火的操作步驟包括：
首先，在真空加壓爐內放置方形石墨坩堝，并將石英玻璃坨體放置在方形成型坩堝內；
然后，封閉爐蓋，接通冷卻循環水，打開真空系統，按照設定的升溫曲線升溫；
升溫至1750℃-1800℃時，關閉真空系統，通入氮氣加壓，壓力在0.5-1.0MPa，保持5-10分鐘后停止加壓；
隨爐自然降溫至1150℃時，控制加熱功率使爐內溫度在1050-1100℃之間保溫3小時后，控制加熱功率以50～80℃/小時的速率慢速降溫至900℃后，隨爐自然冷卻到室溫；
打開爐蓋，取出內有石英方形坨體的方形石墨坩堝，石英方形坨體脫模，完成槽沉、均化、精密退火過程。
4.根據權利要求1、2或3所述的光掩膜版用方形石英玻璃基片的制備方法，其特征在于，所述槽沉均化、精密退火的操作步驟中，采用圓柱形石英玻璃坨體制成大塊方形坨體，在后續加工工序中，先將大塊方形坨體切分成小塊方形坨體，再進行石英玻璃基片的切割、研磨、拋光工序。
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