[發明專利]鍍有雙層NiCr吸收層的低反射率鍍膜玻璃及其制備方法

無效

• 申請號: 201110265832.2
• 申請日: 2011-09-08
• 公開（公告）號: CN102442032A
• 公開（公告）日: 2012-05-09
• 發明（設計）人: 趙永進;楊貴祥;張大為;方志堅
• 申請（專利權）人: 天津耀皮工程玻璃有限公司
• 主分類號: B32B17/06
• 分類號: B32B17/06;B32B9/04;B32B15/04;C23C14/34;C23C14/08;C23C14/14
• 代理公司: 天津市北洋有限責任專利代理事務所 12201
• 代理人: 曹玉平

1.一種鍍有雙層NiCr吸收層的低反射率鍍膜玻璃，包括玻璃基板及玻璃基板上鍍有的金屬和金屬氧化物鍍層，其特征在于，所述的玻璃基板上鍍有的金屬和金屬氧化物鍍層自玻璃基板向外依次為：SnO₂/ZnO₂/NiCr/Ag/NiCr/SnO₂，即在玻璃基板上依次鍍有氧化錫層(1)氧化鋅層(2)、鎳鎘合金層(3)、銀層(4)、鎳鎘合金層(5)、氧化錫層(6)。

2.根據權利要求1的鍍有雙層NiCr吸收層的低反射率鍍膜玻璃，其特征在于，所述的玻璃基板為普通6mm鈉鈣硅酸鹽浮法玻璃。

3.權利要求1的鍍有雙層NiCr吸收層的低反射率鍍膜玻璃的制備方法，具有如下步驟：

I玻璃基板清洗、干燥；

II預真空過渡：玻璃基板通過不同的真空腔室，使玻璃從大氣狀態傳送到工藝所需的高真空狀態；本底真空度小于5×10^-5mbar；

III鍍氧化錫層(1)：通過交流電源將金屬錫靶在氬氧氣氛中濺射，濺射氣壓范圍2×10^-2mbr～3×10^-4mbr，脈沖電源頻率為15kHz～25kHz；濺射氬氧混合氣體積比例為氬∶氧＝7∶10～3∶5，膜層厚度為25～30nm；

IV鍍氧化鋅層(2)：通過交流電源將金屬鋅在氬氧氣氛中濺射，濺射氣壓范圍2×10^-2mbr～3×10^-4mbr，脈沖電源頻率為15kHz～25kHz；濺射氬氧混合氣體積比例為氬∶氧＝10∶7～4∶5。膜層厚度為7～12nm；

V鍍鎳鎘合金層(3)：通過直流電源將鎳鎘合金在氬氣氣氛中濺射，濺射氣壓范圍為8×10^-3mbr～2×10^-4mbr，膜層厚度為4～7nm；

VI鍍銀層(4)：通過直流電源將金屬銀靶在氬氣氣氛中濺射，濺射氣壓范圍為8×10^-3mbr～2×10^-4mbr，膜層厚度為10～14nm；

VII鍍鎳鎘合金層(5)：通過直流電源將鎳鎘合金在氬氣氣氛中濺射，濺射氣壓范圍為8×10^-3mbr～2×10^-4mbr，膜層厚度為1～3nm；

VIII鍍氧化錫層(6)：通過交流電源將金屬錫靶在氬氧氣氛中濺射，濺射氣壓范圍2×10^-2mbr～3×10^-4mbr，脈沖電源頻率為15kHz～25kHz；濺射氬氧混合氣體積比例為氬∶氧＝3∶5～3∶7。膜層厚度為25～35nm；

IX預真空過渡：玻璃基板通過不同的真空腔室，使玻璃產品從高真空的工藝狀態傳送到大氣狀態；

X成品包裝。