[發(fā)明專利]光配向膜及其制作方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110264603.9 | 申請(qǐng)日: | 2011-09-07 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102981312A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-03-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王忠益;汪安昌;歐陽(yáng)祥睿 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 群康科技(深圳)有限公司;奇美電子股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1337 | 分類號(hào): | G02F1/1337;G03F7/00;G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 陳小雯 |
| 地址: | 518109 廣東省深圳市*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 及其 制作方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及液晶顯示器,且特別是涉及光配向膜及其制作方法。
背景技術(shù)
液晶顯示面板主要由有源元件陣列基板、對(duì)向基板以及一液晶層所組成。當(dāng)在對(duì)向基板與有源元件陣列基板之間施加電場(chǎng)時(shí),液晶層內(nèi)的液晶分子便會(huì)受到電場(chǎng)的作用而產(chǎn)生偏轉(zhuǎn),使得液晶層具有相應(yīng)于此電場(chǎng)的光線穿透率。如此一來(lái),液晶顯示面板便可以依據(jù)對(duì)向基板與有源元件陣列基板之間的電場(chǎng)大小,而顯示不同的灰階畫(huà)面。為了使液晶分子快速反應(yīng)以及滿足廣視角的需求,必須令液晶分子在多個(gè)區(qū)域呈不同方向的傾倒排列,也就是多區(qū)域(multi-domain)配向。
目前,最常見(jiàn)的做法大致可以采取配置凸塊(protrusions)、改變邊緣電場(chǎng)(fringe?field)或是光配向(photo?alignment)的方式,來(lái)使液晶分子產(chǎn)生多區(qū)域配向效果。然而,改變邊緣電場(chǎng)的方式會(huì)使制作工藝變得復(fù)雜,而配置凸塊會(huì)犧牲顯示區(qū)開(kāi)口率。為了避免前述兩者的缺點(diǎn),可以采用光配向的方式來(lái)形成多區(qū)域配向。
多區(qū)域光配向技術(shù)是利用線性極化紫外光來(lái)進(jìn)行曝光制作工藝,使得液晶顯示器的光配向膜具有多個(gè)配向方向。然而,多區(qū)域光配向制作工藝需要使用多個(gè)昂貴的光掩模才能使配向膜具有多個(gè)配向方向,以致于使制作成本大幅提升。
發(fā)明內(nèi)容
為解決上述問(wèn)題,本發(fā)明一實(shí)施例提供一種光配向膜的制作方法,包括提供一光配向材料層,具有至少一像素對(duì)應(yīng)部;以及對(duì)像素對(duì)應(yīng)部進(jìn)行不同配向方向的一全曝光制作工藝與一局部曝光制作工藝,其中全曝光制作工藝包括對(duì)像素對(duì)應(yīng)部的整體照光,局部曝光制作工藝包括僅對(duì)像素對(duì)應(yīng)部的局部照光,進(jìn)行過(guò)全曝光制作工藝與局部曝光制作工藝的像素對(duì)應(yīng)部具有一曝光過(guò)一次的一次照光區(qū)以及一曝光過(guò)二次的二次照光區(qū),且局部位于二次照光區(qū),光配向材料層的位于一次照光區(qū)中的部分具有一第一配向方向,局部具有一不同于第一配向方向的第二配向方向。
本發(fā)明一實(shí)施例提供一種光配向膜包括至少一像素對(duì)應(yīng)部,僅具有相連的一曝光過(guò)一次的一次照光區(qū)以及一曝光過(guò)二次的二次照光區(qū),且像素對(duì)應(yīng)部的位于一次照光區(qū)的部分具有一第一配向方向與一預(yù)傾角,像素對(duì)應(yīng)部的位于二次照光區(qū)的部分具有一不同于第一配向方向的第二配向方向與預(yù)傾角。
附圖說(shuō)明
圖1A至圖1B繪示申請(qǐng)人所知的一種光配向膜的制作工藝上視圖;
圖2A至圖2B分別繪示圖1A至圖1B沿I-I’線段的剖視圖;
圖3A至圖3C繪示本發(fā)明一實(shí)施例的光配向膜的制作工藝上視圖;
圖4A至圖4B分別繪示圖3A至圖3B沿I-I’線段的剖視圖,圖4C繪示圖3C沿II-II’線段的剖視圖,且還額外繪示配置于光配向材料層上的液晶分子;
圖5A繪示本發(fā)明另一實(shí)施例的光配向膜的制作工藝上視圖;
圖5B繪示圖5A沿I-I’線段的剖視圖;
圖6A至圖6C繪示本發(fā)明一實(shí)施例的光配向膜的制作工藝上視圖;
圖7A至圖7B分別繪示圖6A至圖6B沿I-I’線段的剖視圖,圖7C繪示圖6C沿II-II’線段的剖視圖,且還額外繪示配置于光配向材料層上的液晶分子;
圖8A繪示本發(fā)明另一實(shí)施例的光配向膜的制作工藝上視圖;
圖8B繪示圖8A沿I-I’線段的剖視圖;
圖9繪示本發(fā)明一實(shí)施例的液晶顯示器的剖視圖。
主要元件符號(hào)說(shuō)明
110、310、310a、310b~光配向材料層;
112、312~像素對(duì)應(yīng)部;
120~第一光掩模;
122、132、322、512、612、812~開(kāi)口;
130~第二光掩模;
320、510、610、810~光掩模;
900~液晶顯示器;
910~第一基板;
920~第二基板;
930~液晶層;
A1~第一區(qū)域;
A2~第二區(qū)域;
E1~一次照光區(qū);
E2~二次照光區(qū);
L1~第一光線;
L2~第二光線;
OV~重疊區(qū)域;
V1~第一配向方向;
V2~第二配向方向;
θ1~第一預(yù)傾角;
θ2~第二預(yù)傾角。
具體實(shí)施方式
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G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





