[發明專利]基于單元結構的體紋理合成方法

有效

• 申請號: 201110264363.2
• 申請日: 2011-09-07
• 公開（公告）號: CN102298790A
• 公開（公告）日: 2011-12-28
• 發明（設計）人: 胡事民;杜松沛
• 申請（專利權）人: 清華大學
• 主分類號: G06T15/04
• 分類號: G06T15/04
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 王瑩

1.一種基于單元結構的體紋理合成方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1、分析二維紋理圖像，得到三維單元結構的二維截面，使用空間中三個垂直方向的二維截面來構造多個三維單元結構；

S2、分析所述二維紋理圖像，計算所述多個三維單元結構在空間中的相鄰關系，所述相鄰關系由所述多個三維單元結構的三個垂直方向的二維截面在所述二維紋理圖像上的相鄰關系推導得到；

S3、根據所述多個三維單元結構在空間中的相鄰關系，在空間中依次放置所述多個三維單元結構，當所有三維單元結構放置完畢后，對所有三維單元結構的位置進行調整并對其形狀進行放縮；

S4、合成各三維單元結構之間的介質，得到最終的體紋理。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，步驟S1具體為：分析二維紋理圖像，提取出二維紋理圖像中的一個單元結構，此單元結構被視為所要構造的一個三維單元結構的二維截面，將空間中三個垂直方向的二維截面之一視為基礎面，另兩個二維截面同時圍繞此基礎面的垂線進行旋轉，在空間中掃過的區域被視為三維單元結構的內部，從而構造出一個三維單元結構。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，步驟S2具體為：對于其中一個三維單元結構A，根據二維紋理圖像，計算構成該三維單元結構A的三個二維截面之間的相鄰關系，包含這些相鄰的二維截面的三維單元結構作為該三維單元結構A的一個鄰居，該三維單元結構A與作為其鄰居的三維單元結構之間的位移關系由所對應的二維截面之間的位移所決定，由此計算所構造的所有三維單元結構在空間中的相鄰關系。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，步驟S3中，使用貪心的方法在空間中依次放置所述多個三維單元結構。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，步驟S3中，首先在空間中的任意位置放置任意一個三維單元結構，然后從該三維單元結構的相鄰關系中選取一個和該三維單元結構在空間中不重疊的結構放置在空間中，重復此貪心的步驟，直到空間中無法再放置更多的三維單元結構為止，放置完畢后，對所有三維單元結構的位置進行調整，最后在保證所有三維單元結構不重疊的情況下，對一些三維單元結構進行形狀放大，以填補空間中剩余的空隙。

6.根據權利要求1～5中任一項所述的方法，其特征在于，步驟S4中，使用并行的方法合成各三維單元結構之間的介質，合成時只考慮所述二維紋理圖像中的非單元結構截面部分。