[發(fā)明專利]成膜裝置

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110261141.5
• 申請(qǐng)日: 2011-09-02
• 公開（公告）號(hào): CN102383110A
• 公開（公告）日: 2012-03-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 加藤壽;岡部庸之;本間學(xué);熊谷武司;竹內(nèi)靖
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C23C16/455
• 分類號(hào): C23C16/455;C23C16/458;C23C16/44
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會(huì)華

1.一種成膜裝置，該成膜裝置在容器內(nèi)向基板依次供給彼此反應(yīng)的至少兩種反應(yīng)氣體，層疊該兩種反應(yīng)氣體的反應(yīng)生成物的層而形成薄膜，

該成膜裝置包括：

第1旋轉(zhuǎn)臺(tái)，其能旋轉(zhuǎn)地設(shè)于上述容器內(nèi)，包括能分別載置直徑為300mm的基板的10個(gè)以上的基板載置區(qū)域；

第1反應(yīng)氣體供給部，其配置在上述容器內(nèi)的第1區(qū)域內(nèi)，沿與上述第1旋轉(zhuǎn)臺(tái)的旋轉(zhuǎn)方向相交的方向延伸，向上述第1旋轉(zhuǎn)臺(tái)供給第1反應(yīng)氣體；

第2反應(yīng)氣體供給部，其配置在沿上述第1旋轉(zhuǎn)臺(tái)的上述旋轉(zhuǎn)方向與上述第1區(qū)域分開的第2區(qū)域內(nèi)，沿與上述旋轉(zhuǎn)方向相交的方向延伸，向上述第1旋轉(zhuǎn)臺(tái)供給第2反應(yīng)氣體；

第1排氣口，其設(shè)于上述第1區(qū)域；

第2排氣口，其設(shè)于上述第2區(qū)域；

分離區(qū)域，其配置在上述第1區(qū)域與上述第2區(qū)域之間，包括分離氣體供給部和頂面，該分離氣體供給部噴出用于分離上述第1反應(yīng)氣體與上述第2反應(yīng)氣體的分離氣體，在該頂面與上述第1旋轉(zhuǎn)臺(tái)之間劃分出供自該分離氣體供給部供給的上述分離氣體流動(dòng)的空間，且該頂面具有能將上述分離氣體流動(dòng)的該空間的壓力維持得比上述第1區(qū)域中的壓力和上述第2區(qū)域中的壓力高的高度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其中，

該成膜裝置還具有以上述第1旋轉(zhuǎn)臺(tái)能旋轉(zhuǎn)的方式能裝卸地支承上述第1旋轉(zhuǎn)臺(tái)的支承部；

利用上述支承部，能夠?qū)⑸鲜龅?旋轉(zhuǎn)臺(tái)更換為第2旋轉(zhuǎn)臺(tái)，該第2旋轉(zhuǎn)臺(tái)包括能分別載置直徑為450mm的基板的5個(gè)以上的基板載置區(qū)域。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其中，

上述第1反應(yīng)氣體供給部和第2反應(yīng)氣體供給部均具有或其中一方具有沿與上述旋轉(zhuǎn)方向相交的方向延伸的、長度互不相同的多個(gè)氣體噴嘴。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其中，

該成膜裝置還具有氣體噴射器，該氣體噴射器包括：

流路形成構(gòu)件，其被分隔壁劃分成氣體活化室和氣體導(dǎo)入室；

氣體導(dǎo)入部，其用于將處理氣體導(dǎo)入到上述氣體導(dǎo)入室內(nèi)；

一對(duì)電極，其設(shè)置為在上述氣體活化室內(nèi)沿上述分隔壁彼此平行延伸，施加用于使氣體活化的電力；

連通孔，其沿電極的長度方向設(shè)于上述分隔壁上，用于將上述氣體導(dǎo)入室內(nèi)的氣體供給到上述氣體活化室內(nèi)；

氣體噴出口，其沿上述電極的長度方向設(shè)于上述氣體活性室，用于噴出在上述氣體活化室中被活化了的氣體。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其中，

上述第1旋轉(zhuǎn)臺(tái)包括：

槽部，其包圍上述基板載置區(qū)域；

晶圓導(dǎo)向環(huán)，其具有比上述基板的直徑大的內(nèi)徑，能與上述槽部嵌合，

上述晶圓導(dǎo)向環(huán)具有爪部，該爪部延伸到比載置在上述晶圓導(dǎo)向環(huán)內(nèi)側(cè)的上述基板的外緣靠內(nèi)側(cè)的位置。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的成膜裝置，其中，

上述第2旋轉(zhuǎn)臺(tái)包括：

槽部，其包圍上述基板載置區(qū)域；

晶圓導(dǎo)向環(huán)，其具有比上述基板的直徑大的內(nèi)徑，能與上述槽部嵌合，

上述晶圓導(dǎo)向環(huán)具有爪部，該爪部延伸到比載置在上述晶圓導(dǎo)向環(huán)內(nèi)側(cè)的上述基板的外緣靠內(nèi)側(cè)的位置。