[發(fā)明專利]曝光控制裝置及方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110259948.5
• 申請(qǐng)日: 2011-09-02
• 公開（公告）號(hào): CN102377947A
• 公開（公告）日: 2012-03-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳冠波
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市先河系統(tǒng)技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): H04N5/235
• 分類號(hào): H04N5/235;H04N5/243
• 代理公司: 深圳市威世博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44280
• 代理人: 何青瓦

1.一種曝光控制方法，其特征在于，包括以下步驟：

減少攝像測(cè)光過程中紅外發(fā)射設(shè)備的工作電流，并獲取減少工作電流后的曝光時(shí)間變化值；

判斷所述曝光時(shí)間變化值與工作電流減少值之間的比值是否小于第一閾值；

在小于第一閾值時(shí)，關(guān)閉所述紅外發(fā)射設(shè)備并繼續(xù)攝像。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光控制方法，其特征在于，所述減少攝像測(cè)光過程中紅外發(fā)射設(shè)備的工作電流的動(dòng)作包括：

減少攝像測(cè)光過程中紅外發(fā)射設(shè)備至少四分之一以上紅外發(fā)射設(shè)備總電流的工作電流。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的曝光控制方法，其特征在于，所述減少攝像測(cè)光過程中紅外發(fā)射設(shè)備的工作電流動(dòng)作之前，包括：

獲取攝像測(cè)光過程中的第一曝光時(shí)間；

判斷所述第一曝光時(shí)間是否大于預(yù)先設(shè)置在本地的第二閾值；

如果第一曝光時(shí)間大于第二閾值，則判斷所述第一曝光時(shí)間是否大于預(yù)先設(shè)置在本地的第三閾值，所述第三閾值大于第二閾值；

如果第一曝光時(shí)間大于第三閾值，則增加所述紅外發(fā)射設(shè)備的工作電流以增加其紅外線發(fā)射強(qiáng)度、減小所述第一曝光時(shí)間，使得減少后的所述第一曝光時(shí)間大于所述第二閾值且小于所述第三閾值。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光控制方法，其特征在于，所述判斷第一曝光時(shí)間是否大于預(yù)先設(shè)置在本地的第二閾值的步驟之后還包括：

如果第一曝光時(shí)間小于第二閾值，則減少所述紅外發(fā)射設(shè)備的工作電流以減少紅外線發(fā)射強(qiáng)度。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光控制方法，其特征在于，所述關(guān)閉所述紅外發(fā)射設(shè)備之后、獲取第一曝光時(shí)間的步驟之前還包括：

獲取攝像測(cè)光過程中的第二曝光時(shí)間；

判斷所述第二曝光時(shí)間是否大于預(yù)先設(shè)置在本地的第四閾值，所述第四閾值小于第二閾值；

如果第二曝光時(shí)間大于第四閾值，則向所述紅外發(fā)射設(shè)備發(fā)送第一控制信號(hào)使所述紅外發(fā)射設(shè)備開啟。

6.一種曝光控制裝置，其特征在于，包括：

電流減少模塊，用于減少攝像測(cè)光過程中紅外發(fā)射設(shè)備的工作電流；

第一曝光時(shí)間獲取模塊，用于在電流減少單元減少工作電流之后獲取減少工作電流而導(dǎo)致的曝光時(shí)間變化值；

第一判斷模塊，用于判斷所述曝光時(shí)間變化值與工作電流減少值之間的比值是否小于第一閾值；

紅外關(guān)閉模塊，用于在小于第一閾值時(shí)，關(guān)閉所述紅外發(fā)射設(shè)備并繼續(xù)攝像。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的曝光控制裝置，其特征在于，所述裝置包括：

第二曝光時(shí)間獲取模塊：用于獲取攝像測(cè)光過程中的第一曝光時(shí)間；

第二判斷模塊：用于判斷所述第一曝光時(shí)間是否大于預(yù)先設(shè)置在本地的第二閾值；

第三判斷模塊：用于在第二判斷模塊得出第一曝光時(shí)間大于第二閾值后，判斷所述第一曝光時(shí)間是否大于預(yù)先設(shè)置在本地的第三閾值，所述第三閾值大于第二閾值；

第一紅外調(diào)整模塊：用于在第一曝光時(shí)間大于第三閾值時(shí)，增加所述紅外發(fā)射設(shè)備的工作電流以增加紅外線發(fā)射強(qiáng)度、減小所述第一曝光時(shí)間，使得減少后的所述第一曝光時(shí)間大于所述第二閾值且小于所述第三閾值。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的曝光控制裝置，其特征在于，所述裝置包括：

第二紅外調(diào)整模塊：用于當(dāng)?shù)诙袛嗄K判斷出第一曝光時(shí)間小于預(yù)先設(shè)置在本地的第二閾值時(shí)，減少所述紅外發(fā)射設(shè)備的工作電流以減少紅外線發(fā)射強(qiáng)度。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的曝光控制裝置，其特征在于，所述裝置還包括：

第三紅外調(diào)整模塊：用于當(dāng)?shù)谌袛嗄K判斷出第一曝光時(shí)間小于第三閾值時(shí)，保持所述紅外發(fā)射設(shè)備的紅外線發(fā)射強(qiáng)度；

第三曝光時(shí)間獲取模塊：用于獲取紅外發(fā)射設(shè)備在關(guān)閉狀態(tài)下攝像測(cè)光過程中的第二曝光時(shí)間；

第四判斷模塊：判斷所述第二曝光時(shí)間是否大于預(yù)先設(shè)置在本地的第四閾值；

紅外開啟模塊：用于在第二曝光時(shí)間大于第四閾值時(shí)，向所述紅外發(fā)射設(shè)備發(fā)送第一控制信號(hào)使所述紅外發(fā)射設(shè)備開啟。