[發(fā)明專利]一種基于非規(guī)整膜層結(jié)構(gòu)的寬光譜金屬介質(zhì)膜光柵

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110259841.0
• 申請日: 2011-09-05
• 公開（公告）號: CN102313920A
• 公開（公告）日: 2012-01-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 孔偉金;云茂金;張文飛;滕冰;劉均海;孫欣;陳沙鷗
• 申請（專利權(quán)）人: 青島大學(xué)
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18;G02B1/10;B32B15/04;B32B9/04
• 代理公司: 北京鴻元知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11327
• 代理人: 邸更巖

1.一種基于非規(guī)整膜層結(jié)構(gòu)的寬光譜金屬介質(zhì)膜光柵，其特征在于：該寬光譜金屬介質(zhì)膜光柵從下至上依次包括基底(7)、金屬Cr膜(6)、金屬Ag膜(5)、TiO₂介質(zhì)膜(4)、SiO₂介質(zhì)膜(3)、剩余膜層(2)和表面光柵結(jié)構(gòu)(1)；所述的金屬Ag膜(5)、TiO₂介質(zhì)膜(4)和SiO₂介質(zhì)膜(3)組成高反射膜(8)；所述的剩余膜層(2)和表面光柵結(jié)構(gòu)均為HfO₂材料；光柵的周期為1480線/mm，刻蝕深度為400納米，剩余膜層的厚度為200納米，占空比為0.2，入射角度為58°，入射光的偏振態(tài)為TE模式。

2.按照權(quán)利要求1所述的一種基于非規(guī)整膜層結(jié)構(gòu)的寬光譜金屬介質(zhì)膜光柵，其特征在于：所述的高反射膜采用非規(guī)整結(jié)構(gòu)，其結(jié)構(gòu)為G/CrAgTL，其中G是基底，T代表TiO₂介質(zhì)膜，L代表SiO₂介質(zhì)膜，金屬Cr膜的厚度為67nm，金屬Ag膜的厚度為87.5nm，TiO₂介質(zhì)膜的厚度為171nm，SiO₂介質(zhì)膜的厚度為111nm。