[發明專利]一種光刻膠清洗液

在審

• 申請號: 201110259609.7
• 申請日: 2011-09-05
• 公開（公告）號: CN102981376A
• 公開（公告）日: 2013-03-20
• 發明（設計）人: 孫廣勝;劉兵;彭洪修
• 申請（專利權）人: 安集微電子（上海）有限公司
• 主分類號: G03F7/42
• 分類號: G03F7/42
• 代理公司: 上海翰鴻律師事務所 31246
• 代理人: 李佳銘

1.一種光刻膠清洗液，該清洗液包含：氫氧化鉀、胺醇、季戊四醇、木糖醇和其它助溶劑。

2.如權利要求1所述清洗液，其特征在于，所述氫氧化鉀的質量百分比含量為0.1～10％；所述醇胺的質量百分比含量為5～40％；所述季戊四醇的質量百分比含量為0.1-15％；所述木糖醇的質量百分比含量為0.1～10％，所述其它助溶劑為余量。

3.如權利要求2所述清洗液，其特征在于，所述氫氧化鉀的質量百分比含量為0.1～5％；所述醇胺的質量百分比含量為10-35％；所述季戊四醇的質量百分比含量為0.1-15％；所述木糖醇的質量百分比含量為0.1～5％，所述其它助溶劑為余量。

4.如權利要求1所述清洗液，其特征在于，所述的醇胺為單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、正丙醇胺、異丙醇胺、2-(二乙氨基)乙醇、乙基二乙醇胺和二甘醇胺中的一種或幾種。

5.如權利要求1所述清洗液，其特征在于，所述的助溶劑選自亞砜、砜、咪唑烷酮、咪唑啉酮、吡咯烷酮、醇醚、酰胺中的一種或多種。

6.如權利要求5所述清洗液，其特征在于，所述的亞砜為二甲基亞砜；所述的砜為環丁砜；所述的咪唑烷酮為1，3-二甲基-2-咪唑烷酮；所述的咪唑啉酮為1，3-二甲基-2-咪唑啉酮；所述的吡咯烷酮為N-甲基吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮、N-羥乙基吡咯烷酮和N-環己基吡咯烷酮中的一種或幾種；所述的酰胺為二甲基甲酰胺和/或二甲基乙酰胺；所述的醇醚為乙二醇醚和/或丙二醇醚。

7.如權利要求6所述清洗液，其特征在于，所述的乙二醇醚為二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丁醚中的一種或幾種；所述的丙二醇醚為二丙二醇單甲醚和/或二丙二醇單乙醚。