[發(fā)明專利]銅面粗化微蝕刻劑有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110257972.5 | 申請(qǐng)日: | 2011-09-02 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102286745A | 公開(kāi)(公告)日: | 2011-12-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 章曉冬;劉江波 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廣州市天承化工有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23F1/18 | 分類號(hào): | C23F1/18 |
| 代理公司: | 廣州新諾專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44100 | 代理人: | 張玲春 |
| 地址: | 510990 廣東省廣州市*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 銅面粗化微 蝕刻 | ||
1.一種銅面粗化微蝕刻劑,其特征在于,該微蝕刻劑包含如下質(zhì)量百分含量的各組分:
氯化銅??????????5-15%
氯化鈉??????????2-10%
有機(jī)酸及其鹽????3-20%
緩蝕劑??????????0.001-0.2%
水??????????????余量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銅面粗化微蝕刻劑,其特征在于:所述有機(jī)酸包含甲酸、蘋(píng)果酸及衣康酸中的一種或二者以上的混合物。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銅面粗化微蝕刻劑,其特征在于:所述有機(jī)酸的鹽類物質(zhì)包含有:甲酸鈉。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銅面粗化微蝕刻劑,其特征在于:所述緩蝕劑為硫脲或?yàn)趼逋衅贰?/p>
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銅面粗化微蝕刻劑,其特征在于:所述微蝕刻劑包含如下質(zhì)量百分含量的各組分:
氯化銅????8%
氯化鈉????5%
甲酸??????6%
甲酸鈉????8%
硫脲??????0.01%
去離子水??余量。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銅面粗化微蝕刻劑,其特征在于:所述微蝕刻劑包含如下質(zhì)量百分含量的各組分:
氯化銅????7%
氯化鈉????6%
衣康酸????5%
甲酸鈉????5%
烏洛托品??0.02%
去離子水??余量。
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