[發(fā)明專利]熒光物質(zhì)和使用其的發(fā)光器件無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110257857.8 | 申請日: | 2011-09-02 |
| 公開(公告)號: | CN102399556A | 公開(公告)日: | 2012-04-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 加藤雅禮;福田由美;岡田葵 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社東芝 |
| 主分類號: | C09K11/80 | 分類號: | C09K11/80;C09K11/64;H01L33/50 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 11038 | 代理人: | 李帆 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 熒光 物質(zhì) 使用 發(fā)光 器件 | ||
1.熒光物質(zhì),該熒光物質(zhì)由下式(1)表示:
(M1-xECx)aSibAlOcNd????(1)
其中M是選自如下的元素:第1族元素、第2族元素、第3族元素、Al以外的第13族元素、稀土元素、第4族元素和Si以外的第14族元素;EC是選自Eu,Ce,Mn,Tb,Yb,Dy,Sm,Tm,Pr,Nd,Pm,Ho,Er,Cr,Sn,Cu,Zn,As,Ag,Cd,Sb,Au,Hg,Tl,Pb,Bi和Fe中的元素;且x、a、b、c和d是分別滿足下列條件的數(shù):0<x<0.4、0.55<a<0.80、2<b<3、0<c≤0.6和4<d<5;
其形式為平均晶粒尺寸為20-100μm且縱橫比為2-4的晶體;和
在250-500nm波長范圍的光激勵下,其發(fā)射具有580-660nm波長范圍內(nèi)的峰值的發(fā)光。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的熒光物質(zhì),其形式為包含20%或更少的縱橫比在2-4范圍之外的晶粒的晶體。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的熒光物質(zhì),其中所述EC是Eu或Mn。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的熒光物質(zhì),其中所述x、a、b、c和d是分別滿足下列條件的數(shù)值:0.02≤x≤0.2、0.66≤a≤0.69、2.2≤b≤2.4、0.43≤c≤0.51和4.2≤d≤4.3。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的熒光物質(zhì),其含有這樣的組分,通過用特定的CuKαX射線測得的該組分的XRD圖譜同時在七個或更多個位置顯示出衍射峰,所述位置選自下列十一個位置中:15.0-15.25°、23.1-23.20°、24.85-25.05°、26.95-27.15°、29.3-29.6°、30.9-31.1°、31.6-31.8°、33.0-33.20°、35.25-35.45°、36.1-36.25°和56.4-56.65°,就衍射角而言(2θ)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1的熒光物質(zhì),其通過如下步驟制備:
將包括如下的材料混合:所述M的氮化物或碳化物;Al的氮化物、氧化物或碳化物;Si的氮化物、氧化物或碳化物;和所述EC的氧化物、氮化物或碳酸鹽;和
燒制所述混合物持續(xù)不超過4小時的燒制時間。
7.根據(jù)權(quán)利要求6的熒光物質(zhì),其中所述燒制時間處在不小于0.1小時且不大于2小時的范圍內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6的熒光物質(zhì),其中在不低于5大氣壓的壓力下在1500-2000℃的溫度下燒制所述混合物。
9.根據(jù)權(quán)利要求6的熒光物質(zhì),其中在氮氣氛下燒制所述混合物。
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