[發明專利]基于超材料的微帶線有效
| 申請號： | 201110254545.1 | 申請日： | 2011-08-31 |
| 公開（公告）號： | CN102956940A | 公開（公告）日： | 2013-03-06 |
| 發明（設計）人： | 劉若鵬;季春霖;岳玉濤;李星昆;周添;宿超;楊樹坤 | 申請（專利權）人： | 深圳光啟高等理工研究院;深圳光啟創新技術有限公司 |
| 主分類號： | H01P3/08 | 分類號： | H01P3/08 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳市*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基于 材料 微帶 | ||
1.基于超材料的微帶線，所述微帶線包括金屬帶、介質基板以及接地板，其特征在于，所述介質基板為超材料基板，其中，所述金屬帶和所述接地板分別位于所述超材料基板的兩側且均與超材料基板緊貼，所述超材料基板由多個超材料片層組成。
2.根據權利要求1所述的基于超材料的微帶線，其特征在于，所述多個超材料片層是具有相同折射率分布的多個超材料片層。
3.根據權利要求1所述的基于超材料的微帶線，其特征在于，所述每一超材料片層均由多個超材料單元組成。
4.根據權利要求3所述的基于超材料的微帶線，其特征在于，所述超材料單元包括人造微結構和供人造微結構附著的單元基材。
5.根據權利要求1～3任意一項所述的基于超材料的微帶線，其特征在于，所述每一超材料片層的折射率分布規律為：與所述金屬帶正下方處的折射率最小，且往遠離所述金屬帶兩側的地方折射率逐漸增大。
6.根據權利要求4所述的基于超材料的微帶線，其特征在于，所述人造微結構為由至少一根金屬絲組成對電磁場有響應的平面結構或立體結構。
7.根據權利要求6所述的基于超材料的微帶線，其特征在于，所述金屬絲為銅絲或銀絲。
8.根據權利要求7所述的基于超材料的微帶線，其特征在于，所述金屬絲通過蝕刻、電鍍、鉆刻、光刻、電子刻或離子刻的方法附著在所述單元基材上。
9.根據權利要求7所述的基于超材料的微帶線，其特征在于，所述人造微結構為雪花狀或雪花狀的衍生形任意一種。
10.根據權利要求4所述的基于超材料的微帶線，其特征在于，所述單元基材由陶瓷材料、環氧樹脂、聚四氟乙烯、FR-4復合材料或F4B復合材料制得。
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