[發明專利]雙色陽極鈦膜形成方法及其制品無效
| 申請號: | 201110253101.6 | 申請日: | 2011-08-26 |
| 公開(公告)號: | CN102953109A | 公開(公告)日: | 2013-03-06 |
| 發明(設計)人: | 鄧建龍 | 申請(專利權)人: | 可成科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C25D11/26 | 分類號: | C25D11/26 |
| 代理公司: | 隆天國際知識產權代理有限公司 72003 | 代理人: | 馮志云;呂俊清 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 陽極 形成 方法 及其 制品 | ||
1.一種雙色陽極鈦膜形成方法,其特征在于,包括下列的步驟:
提供一基材;
清洗該基材;
沉積一鈦膜于該基材上;
形成一遮罩于該基材上;
將具有該鈦膜的該基材作為陽極,浸入電解液;
通入第一直流電壓以氧化該鈦膜的表面,并產生第一氧化鈦薄層于該基材上;
移除該遮罩;
將該基材作為陽極,浸入電解液;
通入比該第一直流電壓低的第二直流電壓以氧化該鈦膜的表面,并產生第二氧化鈦薄層于該基材上;以及
清洗該基材。
2.如權利要求1所述的雙色陽極鈦膜形成方法,其特征在于,該基材為一金屬殼體。
3.如權利要求1所述的雙色陽極鈦膜形成方法,其特征在于,該鈦膜的厚度為0.5微米至1.5微米。
4.如權利要求1所述的雙色陽極鈦膜形成方法,其特征在于,清洗該基材的步驟包括下列步驟:
脫脂、酸洗、水洗,然后烘干。
5.如權利要求1所述的雙色陽極鈦膜形成方法,其特征在于,該第一直流電壓為30伏特以上。
6.如權利要求1所述的雙色陽極鈦膜形成方法,其特征在于,該第一直流電壓與第二直流電壓相差2伏特以上。
7.如權利要求1所述的雙色陽極鈦膜形成方法,其特征在于,該遮罩是可剝膠經由網版印刷的方式形成于該基材上。
8.一種具雙色陽極鈦膜的制品,其特征在于,所述具雙色陽極鈦膜的制品是利用如權利要求1的方法制成,包括:
一基材;及
一形成于該基材表面的鈦膜;
其中該鈦膜的表面具有一局部地氧化于其表面的第一氧化鈦薄層、及一全面地氧化于其表面的第二氧化鈦薄層,其中該第一氧化鈦薄層顯出第一顏色,該第二氧化鈦薄層于未形成該第一氧化鈦薄層的區域顯出第二顏色。
9.如權利要求8所述的具雙色陽極鈦膜的制品,其特征在于,該基材為一金屬殼體。
10.如權利要求8所述的具雙色陽極鈦膜的制品,其特征在于,該鈦膜的厚度為0.5微米至1.5微米。
11.如權利要求8所述的具雙色陽極鈦膜的制品,其特征在于,該第一氧化鈦薄層的厚度超過300納米。
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