[發明專利]微波合束發射裝置有效
| 申請號: | 201110252537.3 | 申請日: | 2011-08-30 |
| 公開(公告)號: | CN102427169A | 公開(公告)日: | 2012-04-25 |
| 發明(設計)人: | 黃卡瑪;楊陽;劉長軍;陳星;郭慶功;楊曉慶;閆麗萍;趙翔;陳倩 | 申請(專利權)人: | 四川大學 |
| 主分類號: | H01Q19/17 | 分類號: | H01Q19/17;H01Q21/00 |
| 代理公司: | 成都虹橋專利事務所 51124 | 代理人: | 李順德 |
| 地址: | 610021 四川*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 微波 束發 裝置 | ||
1.微波合束發射裝置,包括反射面和至少2個微波輻射源,其特征在于,所述反射面為拋物面,所述微波輻射源發射的微波經所述拋物面反射后向同一方向發射,所述微波輻射源為非相干微波輻射源。
2.根據權利要求1所述的微波合束發射裝置,其特征在于,所述微波輻射源均勻分布在所述拋物面焦點周圍,與焦點的距離遠遠小于所述焦點與所述反射面的最小距離。
3.根據權利要求1所述的微波合束發射裝置,其特征在于,所述微波輻射源之一置于所述焦點上,其余均勻分布在所述拋物面焦點周圍,且與焦點的距離遠遠小于所述焦點與反射面的最小距離。
4.根據權利要求1、2或3所述的微波合束發射裝置,其特征在于,所述微波輻射源與反射面采用偏置饋源方式配置,使所述微波輻射源置于所述反射面反射路徑之外。
5.根據權利要求1、2或3所述的微波合束發射裝置,其特征在于,所述拋物面的頂點為反射面的中心,其與焦點的連線為反射面的對稱軸,所述微波輻射源以所述對稱軸為對稱軸,均勻分布在所述焦點周圍。
6.根據權利要求1所述的微波合束發射裝置,其特征在于,所述微波輻射源置于旋轉橢球面的一個焦點上,所述旋轉橢球面的另一個焦點與所述拋物面焦點重合,所述旋轉橢球面由橢圓繞其長軸旋轉構成。
7.根據權利要求6所述的微波合束發射裝置,其特征在于,所述拋物面的頂點為反射面的中心,其與焦點的連線為反射面的對稱軸,所述微波輻射源以所述旋轉軸為對稱軸,均勻分布在所述反射面周邊。
8.根據權利要求7所述的微波合束發射裝置,其特征在于,所述微波輻射源分布在所述拋物面反射路徑之外。
9.根據權利要求1所述的微波合束發射裝置,其特征在于,所述微波輻射源為固態源。
10.根據權利要求1所述的微波合束發射裝置,其特征在于,所述微波輻射源發射的微波為毫米波。
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