[發明專利]圖像形成裝置無效
| 申請號: | 201110251974.3 | 申請日: | 2011-08-30 |
| 公開(公告)號: | CN102385286A | 公開(公告)日: | 2012-03-21 |
| 發明(設計)人: | 山崎龍也;神村直哉 | 申請(專利權)人: | 兄弟工業株式會社 |
| 主分類號: | G03G15/08 | 分類號: | G03G15/08;G03G15/00 |
| 代理公司: | 上海市華誠律師事務所 31210 | 代理人: | 梅高強;劉煜 |
| 地址: | 日本愛知縣名古*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 圖像 形成 裝置 | ||
1.一種圖像形成裝置(1),其特征在于,具有:
第一感光體(52);
第二感光體(52),該第二感光體(52)配置在所述第一感光體(52)的下游;
曝光單元(40、140),該曝光單元(40、140)對所述第一感光體(52)及所述第二感光體進行曝光;
第一顯影單元(60),該第一顯影單元(60)具有向所述第一感光體(52)供給顯影劑的第一顯影輥(62)、支撐所述第一顯影輥(62)的第一框體(61)、以及具有第一基端(64A)和第一自由端(64B)的第一層厚限制片(64),所述第一基端(64A)固定于所述第一框體(61),所述第一自由端(64B)與所述第一顯影輥(62)滑動接觸而限制顯影劑的厚度;
第二顯影單元(60),該第一顯影單元(60)具有向所述第二感光體(52)供給顯影劑的第二顯影輥(62)、支撐所述第二顯影輥(62)的第二框體(61)、以及具有第二基端(64A)和第二自由端(64B)的第二厚限制片(64),所述第二基端(64A)固定于所述第二框體(61),所述第二自由端(64B)與所述第二顯影輥(62)滑動接觸而限制顯影劑的厚度,
從所述第一顯影輥(62)的軸向看,所述第一層厚限制片(64)配置在所述第一顯影輥(62)、與對所述第一感光體(52)進行曝光的曝光用光的光軸(OA)或所述曝光單元(40、140)之間,所述第一層厚限制片(64)在順從所述第一顯影輥(62)的周面的移動方向的順從方向上從所述第一基端(64A)延伸到所述第一自由端(64B)。
2.根據權利要求1所述的圖像形成裝置,其特征在于,從所述第二顯影輥(62)的軸向看,所述第二層厚限制片(64)配置在所述第二顯影輥(62)、與對所述第二感光體(52)進行曝光的曝光用光的光軸(OA)或所述曝光單元(40、140)之間,所述第二層厚限制片(64)在順從所述第二顯影輥(62)的周面的移動方向的順從方向上從所述第二基端(64A)延伸到所述第二自由端(64B)。
3.根據權利要求2所述的圖像形成裝置,其特征在于,還具有:
第三感光體(52),該第三感光體(52)配置在所述第二感光體(52)的下游;
第四感光體(52),該第四感光體(52)配置在所述第三感光體(52)的下游;
第三顯影單元(60),該第三顯影單元(60)具有向所述第三感光體(52)供給顯影劑的第三顯影輥(62)、支撐所述第三顯影輥(62)的第三框體(61)、以及具有第三基端(64A)和第三自由端(64B)的第三層厚限制片(64),所述第三基端(64A)固定于所述第三框體(61),所述第三自由端(64B)與所述第三顯影輥(62)滑動接觸而限制顯影劑的厚度;
第四顯影單元(60),該第四顯影單元(60)具有向所述第四感光體(52)供給顯影劑的第四顯影輥(62)、支撐所述第四顯影輥(62)的第四框體(61)、以及具有第四基端(64A)和第四自由端(64B)的第四層厚限制片(64),所述第四基端(64A)固定于所述第四框體(61),所述第四自由端(64B)與所述第四顯影輥(62)滑動接觸而限制顯影劑的厚度,
從所述第三顯影輥(62)的軸向看,所述第三層厚限制片(64)配置在所述第三顯影輥(62)、與對所述第三感光體(52)進行曝光的曝光用光的光軸(OA)或所述曝光單元(40、140)之間,所述第三層厚限制片(64)在順從所述第三顯影輥(62)的周面的移動方向的順從方向上從所述第三基端(64A)延伸到所述第三自由端(64B),
從所述第四顯影輥(62)的軸向看,所述第四層厚限制片(64)配置在所述第四顯影輥(62)、與對所述第四感光體(52)進行曝光的曝光用光的光軸(OA)或所述曝光單元(40、140)之間,所述第四層厚限制片(64)在順從所述第四顯影輥(62)的周面的移動方向的順從方向上從所述第四基端(64A)延伸到所述第四自由端(64B)。
4.根據權利要求1所述的圖像形成裝置,其特征在于,還具有顯影單元導向機構(16),
該顯影單元導向機構(16)沿著所述第一層厚限制片(64)的所述順從方向,將所述第一顯影單元(60)從遠離位置引導到接近位置,所述接近位置為所述第一顯影輥(62)相對于所述第一感光體(52)接近的位置,所述遠離位置為所述第一顯影輥(62)從所述接近位置遠離所述第一感光體(52)的位置。
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