[發(fā)明專利]放射線敏感性樹脂組合物、固化膜、固化膜的形成方法、濾色器以及濾色器的形成方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110250945.5 | 申請日: | 2011-08-16 |
| 公開(公告)號: | CN102385251A | 公開(公告)日: | 2012-03-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 米田英司;西信弘;丸山拓之 | 申請(專利權(quán))人: | JSR株式會社 |
| 主分類號: | G03F7/027 | 分類號: | G03F7/027;G02B5/20;G03F7/00 |
| 代理公司: | 北京三幸商標專利事務(wù)所 11216 | 代理人: | 劉激揚 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 放射線 敏感性 樹脂 組合 固化 形成 方法 濾色器 以及 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及放射線敏感性樹脂組合物、固化膜、固化膜的形成方法、濾色器以及濾色器的形成方法。?
背景技術(shù)
放射線敏感性樹脂組合物正在被廣泛用于作為層間絕緣膜、保護膜或墊片的固化膜的形成材料。作為該放射線敏感性樹脂組合物,眾所周知例如含有不飽和羧酸、含環(huán)氧基不飽和化合物等構(gòu)成的共聚物的組合物(參照日本特開2001-354822號公報)。但是,在使用這些組合物時,為了提高表面硬度,滿足固化膜達到實際商業(yè)要求的水平,必須在200℃以上的高溫下經(jīng)焙燒工序。?
另一方面,電子書等撓性顯示器正在普及。作為該撓性顯示器的基板,正在研究聚對苯二甲酸乙二醇酯等撓性基板。由于該基板在加熱時拉伸或收縮,會發(fā)生損壞顯示器功能的不佳狀況,必須使固化膜的焙燒工序?qū)崿F(xiàn)低溫化。?
公開有一種即使是低溫焙燒也可作為形成交聯(lián)涂膜的涂料組合物,例如利用封端異氰酸酯的技術(shù)(參照日本特開2009-155408號公報)。通過在反應(yīng)性高的異氰酸酯基上具有保護基團,焙燒時保護基團解離,進行交聯(lián)反應(yīng),能得到良好的固化膜,兼具保存穩(wěn)定性和反應(yīng)性。但是,有關(guān)該涂料組合物,由于不具有基于曝光顯影的圖案形成能力,故不能形成精細的圖案。?
另外,開發(fā)出一種撓性顯示器的柵極絕緣膜用的涂敷液的技術(shù),其即使是低溫焙燒也含可固化的聚酰亞胺前體(參照日本特開2009-4394號公報)。但是,即使在該涂敷液中,也由于不具有基于曝光顯影的圖案形成能力,故不能形成精細的圖案。進一步,可能是因為固化反應(yīng)性不充分,焙燒需1小時以上的時間,且得到的層間絕緣膜等的固化膜的硬度等達不到滿足的水平。進而,在撓性顯示器的裝置制造的工序中,有時在層間絕緣膜的上層形成層疊物。在該情況下,不但要求層間絕緣膜具有高相對介電常數(shù),而且要求針對層疊物形成時使用的溶劑具有耐溶劑性。?
因此,考慮通過添加作為環(huán)氧類材料的固化劑而使用的胺化合物,即使是低溫也使交聯(lián)反應(yīng)進行的方案,但是添加一般的胺化合物,有時會導(dǎo)致與組合物中存在的環(huán)氧基發(fā)生隨時間變化反應(yīng),使保存穩(wěn)定性降低。?
由于這樣的情況,期望開發(fā)一種兼具保存穩(wěn)定性和低溫焙燒性能,且具有充分的敏感性的放射線敏感性樹脂組合物、以及耐溶劑性、相對介電常數(shù)和硬度均優(yōu)異的固化膜。?
現(xiàn)有技術(shù)文獻?
專利文獻?
專利文獻1日本特開2001-354822號公報?
專利文獻2日本特開2009-155408號公報?
專利文獻3日本特開2009-4394號公報?
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是基于上述內(nèi)容而完成的,其目的在于提供一種兼具保存穩(wěn)定性和低溫焙燒性能,且具有充分的敏感性的放射線敏感性樹脂組合物、以及耐溶劑性、相對介電常數(shù)和硬度均優(yōu)異的層?間絕緣膜、保護膜或作為墊片的固化膜、該固化膜的形成方法、耐熱性、耐溶劑性、電壓保持率等優(yōu)異的濾色器、以及該濾色器的形成方法。?
能解決上述課題的發(fā)明是一種放射線敏感性樹脂組合物,其含有:?
[A]堿可溶性樹脂(以下,也稱為[A]堿可溶性樹脂),其通過將(A1)選自不飽和羧酸和不飽和羧酸酐構(gòu)成的群組中的至少一種化合物(以下,也稱為“(A1)化合物”)與(A2)含羥基不飽和化合物(以下,也稱為“(A2)化合物”)共聚而得到;?
[B]具有乙烯性不飽和鍵的聚合性化合物(以下,也稱為“[B]聚合性化合物”);?
[C]放射線敏感性聚合引發(fā)劑;以及?
[D]封端異氰酸酯化合物。?
該放射線敏感性樹脂組合物含有[A]堿可溶性樹脂、[B]重合性化合物、[C]放射線敏感性聚合引發(fā)劑以及[D]封端異氰酸酯化合物。作為放射線敏感性材料的該放射線敏感性樹脂組合物,通過利用放射線敏感性的曝光、顯影,能容易形成微細且精巧的圖案,并且具有充分的敏感性。另外,該放射線敏感性樹脂組合物通過含有[C]放射線敏感性聚合引發(fā)劑,即使是低曝光量的情況下,仍能夠進一步提高耐溶劑性等固化膜的要求特性。進而,通過含有通常在150℃左右進行脫保護的[D]封端異氰酸酯化合物,作為有效的交聯(lián)劑,使異氰酸酯-羥基交聯(lián)反應(yīng)進行,該放射線敏感性樹脂組合物能夠在高水平上兼具保存穩(wěn)定性和低溫焙燒性能。?
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