[發明專利]Mg/Mo/SiC極紫外多層膜反射鏡及其制作方法

無效

• 申請號: 201110250663.5
• 申請日: 2011-08-29
• 公開（公告）號: CN102955185A
• 公開（公告）日: 2013-03-06
• 發明（設計）人: 朱京濤;周斯卡;李浩川;王占山
• 申請（專利權）人: 同濟大學
• 主分類號: G02B5/08
• 分類號: G02B5/08;G02B1/10;B32B9/04;B32B15/00
• 代理公司: 上?？剖⒅R產權代理有限公司 31225
• 代理人: 林君如

1.Mg/Mo/SiC極紫外多層膜反射鏡，其特征在于，該反射鏡由硅片或玻璃的基底(1)、打底層(2)及Mg/Mo/SiC周期多層膜(6)構成，所述的Mg/Mo/SiC周期多層膜(6)由多層厚度恒定的Mg膜(3)、Mo膜(4)及SiC膜(5)周期排列組成。

2.根據權利要求1所述的Mg/Mo/SiC極紫外多層膜反射鏡，其特征在于，所述的硅片為超光滑的晶向為(100)的單晶硅片。

3.根據權利要求1所述的Mg/Mo/SiC極紫外多層膜反射鏡，其特征在于，所述的打底層(2)鍍制在基底(1)上，打底層(2)為厚度2-3納米的SiC。

4.根據權利要求1所述的Mg/Mo/SiC極紫外多層膜反射鏡，其特征在于，所述的Mg/Mo/SiC周期多層膜(6)鍍制在打底層(2)上，每個周期自下而上鍍制的第一層為Mg膜層，第二層為Mo膜層，最后一層為SiC膜層，周期數為30-40，Mg/Mo/SiC多層膜總厚度為450-640納米。

5.根據權利要求1所述的Mg/Mo/SiC極紫外多層膜反射鏡，其特征在于，所述的Mg膜層(3)的厚度為9-11納米Mo膜層(4)的厚度為1-1.5納米；SiC膜層(5)的厚度為3-4.5納米。

6.如權利要求1所述的Mg/Mo/SiC極紫外多層膜反射鏡的制作方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：

1)在超光滑的硅片或玻璃基底(1)上鍍制厚度為2-3納米的SiC作為打底層(2)；

2)在SiC的打底層(2)上鍍制Mg/Mo/SiC周期多層膜(6)，鍍制每個周期時，鍍制順序依次為Mg，Mo，SiC，完成30-40周期的鍍制，即可得到Mg/Mo/SiC極紫外多層膜反射鏡。

7.根據權利要求6所述的Mg/Mo/SiC極紫外多層膜反射鏡的制作方法，其特征在于，所述的打底層(2)及Mg/Mo/SiC周期多層膜(6)均采用直流磁控濺射方法進行鍍制。

8.根據權利要求6所述的Mg/Mo/SiC極紫外多層膜反射鏡的制作方法，其特征在于，所述的打底層(2)及Mg/Mo/SiC周期多層膜(6)所采用的Mg靶、Mo靶和SiC靶的材料純度分別為99.95％，99.5％，99.5％。

9.根據權利要求6所述的Mg/Mo/SiC極紫外多層膜反射鏡的制作方法，其特征在于，在鍍制打底層(2)前基底(1)本底的真空度優于8E-5帕斯卡。

10.根據權利要求6所述的Mg/Mo/SiC極紫外多層膜反射鏡的制作方法，其特征在于，所述的打底層(2)及Mg/Mo/SiC周期多層膜(6)在鍍制過程中采用的工作氣體為氬氣，純度為99.999％，鍍制過程中工作氣壓恒為0.13帕斯卡。