[發明專利]晶圓清洗裝置及晶圓清洗方法

有效

• 申請號: 201110247903.6
• 申請日: 2011-08-26
• 公開（公告）號: CN102319686A
• 公開（公告）日: 2012-01-18
• 發明（設計）人: 紀登峰
• 申請（專利權）人: 上海宏力半導體制造有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B13/00;H01L21/67
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 駱蘇華

1.一種晶圓清洗裝置，包括：

托盤，所述托盤用于承載待清洗晶圓；

設置于托盤上方的噴嘴，所述噴嘴在清洗待清洗晶圓時噴射清洗劑至晶圓表面；

其特征在于，還包括：

設置于托盤上方的矯正裝置，所述矯正裝置用于監測所述噴嘴噴射至所述晶圓表面的清洗劑的軌跡。

2.如權利要求1所述晶圓清洗裝置，其特征在于，所述矯正裝置包括：設置于托盤上方的第一傳感器，與第一傳感器對應設置的第一接受器；設置于托盤上方的第二傳感器，與第二傳感器對應設置的第二接受器。

3.如權利要求1所述晶圓清洗裝置，其特征在于，第一傳感器發射第一傳感束至所述第一接受器，第二傳感器發射第二傳感束至所述第二接受器。

4.如權利要求3所述晶圓清洗裝置，其特征在于，第一傳感束與第二傳感束在待清洗晶圓中心位置交叉。

5.如權利要求2所述晶圓清洗裝置，其特征在于，所述第一接受器和第二接受器信號連接數據處理器。

6.如權利要求1所述晶圓清洗裝置，其特征在于，所述矯正裝置為圖像接受處理裝置。

7.如權利要求1所述晶圓清洗裝置，其特征在于，所述圖像接受處理裝置包括：圖像拍攝裝置，所述圖像拍攝裝置用于獲取所述清洗液的軌跡的圖像信息；接受圖像拍攝裝置拍攝的圖像數據的圖像處理裝置，所述圖像處理裝置內置有設定的清洗液的軌跡的圖像信息，當獲取的所述清洗液的軌跡的圖像信息傳輸至圖像處理裝置，所述圖像處理裝置將設定的圖像信息與獲取的圖像信息進行比較，若比較結果一致，則繼續進行清洗，若比較結果不一致，則控制警報器發出警報。

8.一種晶圓清洗方法，其特征在于，包括：

提供晶圓清洗裝置，所述晶圓清洗裝置具有托盤和噴嘴；所述晶圓清洗裝置具有設置于托盤上方的第一傳感器，與第一傳感器對應設置的第一接受器；設置于托盤上方的第二傳感器，與第二傳感器對應設置的第二接受器；第一傳感器發射第一傳感束至所述第一接受器，第二傳感器發射第二傳感束至所述第二接受器，第一傳感束與第二傳感束在托盤中心位置交叉；

將待清洗晶圓放置于托盤表面，所述待清洗晶圓中心與托盤中心重疊；

在清洗晶圓過程中，根據第一傳感束與噴嘴噴出的清洗液軌跡重疊時間、第二傳感束與噴嘴噴出的清洗液軌跡重疊時間來判斷所述噴嘴位置是否要調整。

9.如權利要求8所述的晶圓清洗方法，其特征在于，所述判斷包括：若第一傳感束與噴嘴噴出的清洗液軌跡重疊時間與第二傳感束與噴嘴噴出的清洗液軌跡重疊時間相同，則所述噴嘴位置無需調整；若第一傳感束與噴嘴噴出的清洗液軌跡重疊時間與第二傳感束與噴嘴噴出的清洗液軌跡重疊時間不相同，則調整所述噴嘴位置。