[發(fā)明專利]具有良好電化學性能的厚電極及其制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110247550.X
• 申請日: 2011-08-26
• 公開（公告）號: CN102324493A
• 公開（公告）日: 2012-01-18
• 發(fā)明（設計）人: 趙豐剛;陳治;汪穎;許瑞;郎野;王娜
• 申請（專利權）人: 東莞新能源科技有限公司;寧德新能源科技有限公司
• 主分類號: H01M4/13
• 分類號: H01M4/13;H01M4/139
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利代理有限公司 44202
• 代理人: 王基才

1.一種具有良好電化學性能的厚電極，其包括集流體與分布在集流體上含有活性物質和導電物質的電極膜片，電極膜片包括靠近集流體的內層膜片和遠離集流體的外層膜片，其特征在于：所述電極膜片的厚度大于300μm，且從內層膜片到外層膜片電極膜片的孔隙率增加。

2.根據權利要求1所述的厚電極，其特征在于：所述內層膜片的孔隙率為5%~10%，外層膜片的孔隙率為15%~30%。

3.根據權利要求1所述的厚電極，其特征在于：所述電極膜片的厚度為300?~3000μm。

4.根據權利要求1所述的厚電極，其特征在于：所述內層膜片的離子轉移電阻小于外層膜片的離子轉移電阻。

5.根據權利要求1所述的厚電極，其特征在于：所述電極膜片還含有用于傳輸或存儲電解液的電解液傳導物質。

6.根據權利要求5所述的厚電極，其特征在于：所述電解液傳導物質為碳納米管和/或碳纖維。

7.根據權利要求1所述的厚電極，其特征在于：所述內層膜片的厚度為厚電極厚度的1%~90%，外層膜片的厚度為厚電極厚度的10%~99%。

8.根據權利要求1所述的厚電極，其特征在于：所述厚電極為正極，所述電極膜片還含有金屬氧化物，金屬氧化物包覆在活性物質顆粒的表面。

9.根據權利要求8所述的厚電極，其特征在于：所述內層膜片中導電物質的質量含量為2%~10%，外層膜片中導電物質的質量含量的0%~5%。

10.根據權利要求1所述的厚電極，其特征在于：從內層膜片到外層膜片所述電極膜片的電導率減小。

11.根據權利要求10所述的厚電極，其特征在于：所述內層膜片和外層膜片的導電物質相同，且內層膜片中導電物質的含量大于外層膜片中導電物質的含量。

12.一種具有良好電化學性能的厚電極的制備方法，其包括以下步驟：

a)?提供集流體；

b)?提供電極膜片組合物，電極膜片組合物中含有活性物質和導電物質；

c)?在集流體上涂覆一層或多層步驟b)的電極膜片組合物，經造孔和/或烘干，形成內層膜片，以及；

d)?在步驟c)制得的內層膜片上涂覆一層或多層步驟b)的電極膜片組合物，經造孔和/或烘干，形成外層膜片；

步驟d)中的外層膜片的孔隙率大于步驟c)中的內層膜片的孔隙率。

13.根據權利要求12所述的制備方法，其特征在于：所述步驟c)和步驟d)中的造孔均為冷壓處理，所述步驟c)中冷壓處理的壓力大于所述步驟d)中冷壓處理的壓力。

14.根據權利要求12所述的制備方法，其特征在于：所述步驟b)的電極膜片組合物中還含有造孔劑，所述步驟c)和步驟d)中的造孔均為加熱烘干處理。

15.根據權利要求14所述的制備方法，其特征在于：所述造孔劑為苯甲酸、碳酸氫銨、偶氮二甲酰胺中的一種或幾種。

16.根據權利要求12所述的制備方法，其特征在于：所述步驟b)的電極膜片組合物中還含有金屬氧化物，金屬氧化物選自三氧化二鋁、氧化鎂、氧化鋅、氧化鋯中的一種或幾種。

17.根據權利要求12所述的制備方法，其特征在于：所述電極膜片組合物還含有用于傳輸或存儲電解液的電解液傳導物質。

18.根據權利要求12至17中任一項所述的制備方法，其特征在于：所述步驟d)中的外層膜片的電導率小于步驟c)中的內層膜片的電導率。

19.根據權利要求18所述的制備方法，其特征在于：所述內層膜片和外層膜片中的導電物質相同，且內層膜片中導電物質的含量大于外層膜片中導電物質的含量。