[發明專利]一種鐳射電磁屏蔽膜涂布工藝

有效

• 申請號: 201110247372.0
• 申請日: 2011-08-24
• 公開（公告）號: CN102416786A
• 公開（公告）日: 2012-04-18
• 發明（設計）人: 陳顯東
• 申請（專利權）人: 溫州宏達激光圖像有限公司
• 主分類號: B41M1/10
• 分類號: B41M1/10;B41M1/26
• 代理公司: 浙江永鼎律師事務所 33233
• 代理人: 王梨華;陳麗霞

1.一種鐳射電磁屏蔽膜的涂布工藝，其特征在于依次由下述步驟組成：

A．印前準備包括：a.承印物（7）為鐳射膜；b.涂料配制：用乙醇或酯類溶劑將抗靜電劑配成0.2～2%濃度的溶液作為涂料放在墨斗（3）中待用；c.選擇用180目或200目的凹版;

B．調整刮刀（4）：根據承印材料選用對應硬度和合適長度的壓印滾筒（1），進行印版滾筒（2）的安裝和壓印滾筒（1）的調整，安裝好刀架（6）、支撐刀片（5）、刮刀（4），支撐刀片（5）伸出刀架（6）15~25mm，刮刀（4）伸出支撐刀片（5）5~8mm，刮刀(4)與印版滾筒（2）接觸點處切線的夾角α為45~70°之間，調節刮刀（4）與印版滾筒（2）接觸點處的壓力為0.2~0.4?MPa;

C．涂布：將壓印滾筒（1）和印版滾筒（2）的速度均控制在50~60m/?min，壓印滾筒（1）和印版滾筒（2）的溫度均控制在130~150℃之間，將（A）中的b步驟中配制好的溶液涂布在鐳射膜上形成防靜電層;

D．印后熟化：將涂布有防靜電層的鐳射膜在自然環境下放置4-7小時進行熟化，使產品充分干燥，制得鐳射電磁屏蔽膜。

2.根據權利要求1所述的一種鐳射電磁屏蔽膜的涂布工藝，其特征在于：所述的（A）中的b步驟中所述的酯類溶劑為環已酮或丁酮或樹脂。

3.根據權利要求1所述的一種鐳射電磁屏蔽膜的涂布工藝，其特征在于：所述的（A）中的b步驟中所述的抗靜電劑為胺的衍生物、季銨鹽、硫酸酯、磷酸酯或聚乙二醇的衍生物。

4.根據權利要求1所述的一種鐳射電磁屏蔽膜的涂布工藝，其特征在于：所述的（C）步驟中所述的壓印滾筒（1）和印版滾筒（2）的溫度控制為變溫過程，由130℃勻速加溫至150℃，再由150℃勻速減溫至130℃，再重復循環以上變溫過程。