[發明專利]CIGS太陽能光電池及其制備方法無效
| 申請號: | 201110246801.2 | 申請日: | 2011-08-26 |
| 公開(公告)號: | CN102263145A | 公開(公告)日: | 2011-11-30 |
| 發明(設計)人: | 錢磊;章婷;張智恒;劉德昂;謝承智;顧龍棣 | 申請(專利權)人: | 蘇州瑞晟太陽能科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/0352 | 分類號: | H01L31/0352;H01L31/06;H01L31/18 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇州市蘇州工*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | cigs 太陽能 光電池 及其 制備 方法 | ||
1.一種CIGS太陽能光電池,包括依次形成于導電襯底上的CIGS活性層、n型半導體層、窗口層、透明電極層和采集電極,該n半導體層與CIGS活性層形成PN結,其特征在于:所述CIGS活性層具有光子晶體結構,其厚度在0.5μm~10μm之間。
2.根據權利要求1所述的CIGS太陽能光電池,其特征在于:所述CIGS活性層是采用如下工藝制備的:首先采用溶液法在導電襯底上覆設CIGS層,再按照設定光子晶體結構采用壓印技術將CIGS層加工成型,最后在200-1000℃退火形成連續的CIGS活性層。
3.根據權利要求1或2所述的CIGS太陽能光電池,其特征在于:所述光子晶體結構至少選自球面、柱面和環面中的任意一種,其口徑10nm-1000μm,其排列方式至少選自立方和六方,其填充因子為100nm-2000nm。
4.根據權利要求1或2所述的CIGS太陽能光電池,其特征在于:所述導電襯底為金屬導電薄膜,其厚度為200-2000nm。
5.根據權利要求1所述的CIGS太陽能光電池,其特征在于:所述n型半導體層由II-VI組三元化合物組成,其厚度在20-200nm之間,所述II-VI組三元化合物至少選自硫化鎘、硫化鋅、硒化鎘、硒化鋅、碲化鎘和碲化鋅中的任意一種以上。
6.根據權利要求1所述的CIGS太陽能光電池,其特征在于:所述窗口層的材料至少選自氧化鋅薄膜和摻雜氧化鋅薄膜中的任意一種,其中摻雜元素至少選自鋁、鎵和鎘中的任意一種以上,并且該窗口層厚度為20-200納米。
7.根據權利要求1所述的CIGS太陽能光電池,其特征在于:所述透明電極層的材料至少選自氧化銦錫薄膜和摻鋁、鎵或鎘的氧化鋅薄膜;所述采集電極的材料至少選自鎳、鋁、金、銀、銅、鈦和鉻中的任意一種以上。
8.如權利要求1所述CIGS太陽能光電池的制備方法,包括依次在導電襯底上形成CIGS活性層、n型半導體層、窗口層、透明電極層和采集電極的工序,其特征在于,
該方法中在導電襯底上形成CIGS活性層的操作具體為:首先采用溶液法在導電襯底上覆設CIGS層,再按照設定光子晶體結構采用壓印技術將CIGS層加工成型,最后在200-1000℃退火形成連續的CIGS活性層。
9.根據權利要求8所述的CIGS太陽能光電池的制備方法,其特征在于:所述光子晶體結構至少選自球面、柱面和環面,其口徑10nm-1000μm,其排列方式至少選自立方和六方,其填充因子為100nm-2000nm。
10.根據權利要求8所述的CIGS太陽能光電池的制備方法,其特征在于:所述溶液法至少選自旋涂法、噴涂法和糟模法中的任意一種以上。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





