[發(fā)明專利]偏振轉換元件、偏振轉換單元、投影裝置、及偏振轉換元件的制造方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110243123.4
• 申請日: 2011-08-18
• 公開（公告）號: CN102445727A
• 公開（公告）日: 2012-05-09
• 發(fā)明（設計）人: 粟野原芳則
• 申請（專利權）人: 精工愛普生株式會社
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;G02B27/28;G03B21/14;G03B21/20;G02F1/1335
• 代理公司: 北京金信立方知識產(chǎn)權代理有限公司 11225
• 代理人: 黃威;張彬

1.一種偏振轉換元件，其特征在于，具有：

元件本體，其具有相互大致平行的光入射面和光出射面；

相位差板，其與該元件本體的所述光出射面相接合，

所述元件本體具有：

多個透光性基板，其以預定角度被依次接合在所述光出射面上；

偏振分離膜和反射膜，其交替設置在多個該透光性基板之間；

粘合層，其分別形成在多個所述透光性基板之間，

所述粘合層由紫外線硬化型粘合劑形成，且其厚度在5μm以上、10μm以下。

2.如權利要求1所述的偏振轉換元件，其特征在于，

所述粘合層以改性丙烯酸酯或改性甲基丙烯酸酯為主要成分。

3.如權利要求1或2所述的偏振轉換元件，其特征在于，

所述透光性基板和所述相位差板通過接合層而接合，

所述接合層包含：

硅骨架，其具有包含硅氧烷(Si-O)鍵的原子結構；

脫離基，其鍵合于該硅骨架，

所述硅骨架中，

所述脫離基脫離了的硅骨架的懸空鍵成為活性鍵，從而將所述透光性基板和所述相位差板接合在一起。

4.如權利要求1或2所述的偏振轉換元件，其特征在于，

所述透光性基板和所述相位差板通過接合層而接合，

所述接合層通過如下的原子擴散接合法而形成，即，通過使設置在所述透光性基板上的微晶連續(xù)薄膜與設置在所述相位差板上的微晶連續(xù)薄膜相接觸，從而使所述透光性基板的微晶連續(xù)薄膜和所述相位差板的微晶連續(xù)薄膜之間的接觸界面及晶界上發(fā)生原子擴散，或者通過使設置在所述透光性基板和所述相位差板中的某一方上的微晶連續(xù)薄膜與設置在另一方上的微晶結構相接觸，從而使所述微晶連續(xù)薄膜和所述微晶結構之間的接觸界面及晶界上發(fā)生原子擴散。

5.如權利要求1或2所述的偏振轉換元件，其特征在于，

所述相位差板由水晶形成。

6.一種偏振轉換單元，其特征在于，具有：

權利要求1或2所述的偏振轉換元件；

被配置在該偏振轉換元件的光入射側的透鏡陣列。

7.一種投影裝置，其特征在于，具有：

光源裝置，其射出光；

權利要求6所述的偏振轉換單元，其將來自該光源裝置的光轉換成一種偏振光；

光調制裝置，其根據(jù)圖像信息，對來自該偏振轉換單元的所述偏振光進行調制，以形成光學像；

投影光學裝置，其對通過該光調制裝置而形成的所述光學像進行放大投影。

8.一種偏振轉換元件的制造方法，其特征在于，

實施如下工序：

膜形成工序，在具有相互大致平行的第1面和第2面的多個透光性板材之間，交替設置偏振分離膜和反射膜；

粘合工序，在多個所述透光性板材之間，分別形成粘合層；

切斷工序，將多個所述透光性板材以相對于所述第1面和所述第2面成預定角度的方式而進行切斷，從而形成具有相互大致平行的光入射面和光出射面的層疊組塊；

研磨工序，對所述層疊組塊的光入射面和光出射面進行研磨，從而形成元件本體；

接合工序，將所述相位差板接合在所述元件本體的光出射面上，

在所述粘合工序中，所述粘合層通過紫外線硬化型粘合劑而形成為，厚度在5μm以上、10μm以下。

9.如權利要求3所述的偏振轉換元件，其特征在于，

所述相位差板由水晶形成。

10.如權利要求4所述的偏振轉換元件，其特征在于，

所述相位差板由水晶形成。

11.一種偏振轉換單元，其特征在于，具有：

權利要求3所述的偏振轉換元件；

被配置在該偏振轉換元件的光入射側的透鏡陣列。

12.一種偏振轉換單元，其特征在于，具有：

權利要求4所述的偏振轉換元件；

被配置在該偏振轉換元件的光入射側的透鏡陣列。