[發(fā)明專利]流體處理結(jié)構(gòu)、光刻設(shè)備及對(duì)應(yīng)的模塊、和器件制造方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110242590.5
• 申請(qǐng)日: 2011-08-23
• 公開（公告）號(hào): CN102375348A
• 公開（公告）日: 2012-03-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: P·威勒姆斯;N·坦凱特;A·N·茲德瑞烏卡夫;R·H·M·考蒂;P·J·克拉莫爾;S·考埃里恩克;A·奎吉普
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 吳敬蓮

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種流體處理結(jié)構(gòu)、一種用于浸沒(méi)式光刻設(shè)備的模塊、一種光刻設(shè)備和一種制造器件的方法。

背景技術(shù)

光刻設(shè)備是一種將所需圖案應(yīng)用到襯底上，通常是襯底的目標(biāo)部分上的機(jī)器。例如，可以將光刻設(shè)備用在集成電路(IC)的制造中。在這種情況下，可以將可選地稱為掩模或掩模版的圖案形成裝置用于生成在所述IC的單層上待形成的電路圖案。可以將該圖案成像到襯底(例如，硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如，包括一部分管芯、一個(gè)或多個(gè)管芯)上。通常，圖案的轉(zhuǎn)移是通過(guò)把圖案成像到提供到襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上進(jìn)行的。通常，單獨(dú)的襯底將包含被連續(xù)形成圖案的相鄰目標(biāo)部分的網(wǎng)絡(luò)。公知的光刻設(shè)備包括：所謂的步進(jìn)機(jī)，在所述步進(jìn)機(jī)中，通過(guò)將全部圖案一次曝光到所述目標(biāo)部分上來(lái)輻射每一個(gè)目標(biāo)部分；以及所謂的掃描器，在所述掃描器中，通過(guò)輻射束沿給定方向(“掃描”方向)掃描所述圖案、同時(shí)沿與該方向平行或反向平行的方向掃描所述襯底來(lái)輻射每一個(gè)目標(biāo)部分。也能夠通過(guò)將圖案壓印(imprinting)到襯底的方式從圖案形成裝置將圖案轉(zhuǎn)移到襯底上。

已經(jīng)提出將光刻投影設(shè)備中的襯底浸沒(méi)到具有相對(duì)高的折射率的液體中(例如水)，以便填充投影系統(tǒng)的最終元件和襯底之間的空間。在一個(gè)實(shí)施例中，液體是蒸餾水，但是其他液體也是可以使用的。本發(fā)明的實(shí)施例將參考液體進(jìn)行描述。然而，其他流體也是合適的，尤其是浸濕流體、不能壓縮的流體和/或具有高于空氣的折射率的流體，期望地，是折射率比水的高的液體。尤其地，希望是不含氣體的流體。這能夠?qū)崿F(xiàn)更小特征的成像，因?yàn)槠毓廨椛湓谝后w中具有更短的波長(zhǎng)。(液體的效果也可以認(rèn)為是提高系統(tǒng)的有效數(shù)值孔徑同時(shí)增加了焦深)。也提出了使用其他的浸沒(méi)液體，包括含有懸浮其中的固體顆粒(例如，石英)的水，或具有納米顆粒懸浮物的液體(例如，具有最大尺寸達(dá)到10nm的顆粒)。懸浮的顆粒與它們懸浮所在的液體可以具有或可以不具有類似的或相同的折射率。其他合適的液體是烴，例如芳香烴、氟化烴和/或水溶液。

將襯底或襯底和襯底臺(tái)浸入到液體的浴器中(例如，見美國(guó)專利第US?4,509,852號(hào))意味著在掃描曝光過(guò)程中必須加速很大的液體主體。這需要附加的或更大功率的電動(dòng)機(jī)，并且液體中的湍流也可能會(huì)導(dǎo)致不希望的或不能預(yù)期的效果。

在一種浸沒(méi)設(shè)備中，浸沒(méi)流體通過(guò)流體處理系統(tǒng)、裝置結(jié)構(gòu)或設(shè)備進(jìn)行處理。在一個(gè)實(shí)施例中，流體處理系統(tǒng)可以供給浸沒(méi)流體，因而是一種流體供給系統(tǒng)。在一個(gè)實(shí)施例中，流體處理系統(tǒng)可以至少部分地限制浸沒(méi)流體，因此是一種流體限制系統(tǒng)。在一個(gè)實(shí)施例，流體處理系統(tǒng)可以提供阻擋件給浸沒(méi)流體，因此是一種阻擋構(gòu)件，例如流體限制結(jié)構(gòu)。在一個(gè)實(shí)施例中，流體處理系統(tǒng)可能會(huì)產(chǎn)生或利用氣流，例如用以幫助控制浸沒(méi)流體的流動(dòng)和/或位置。氣流可以形成密封以限制浸沒(méi)流體，因而流體處理結(jié)構(gòu)可以稱為密封部件；這種密封部件可以是流體限制結(jié)構(gòu)。在一個(gè)實(shí)施例中，浸沒(méi)液體可以被用作浸沒(méi)流體。在那種情況下，流體處理系統(tǒng)可以是液體處理系統(tǒng)。參照前面的說(shuō)明書，本段中提到的相對(duì)于流體限定的特征可以理解為包括相對(duì)于液體限定的特征。

發(fā)明內(nèi)容

在浸沒(méi)光刻技術(shù)中，流體處理結(jié)構(gòu)(例如局部區(qū)域流體處理結(jié)構(gòu))應(yīng)該被設(shè)計(jì)成能夠處理高的掃描速度(通常是襯底的)，而不會(huì)從流體處理結(jié)構(gòu)損失大量的液體，期望沒(méi)有液體損失。一些液體容易流失并且留在面對(duì)流體處理結(jié)構(gòu)(即，正對(duì)表面)的表面(例如襯底或襯底臺(tái))上。如果任何這種液體與在正對(duì)表面和流體處理結(jié)構(gòu)之間延伸的彎液面碰撞，則會(huì)引起氣泡進(jìn)入液體，尤其地在高的掃描速度條件下發(fā)生這種情況。如果這種氣泡通過(guò)浸沒(méi)液體進(jìn)入圖案化束所經(jīng)過(guò)的路徑，則會(huì)影響圖案化束的通道并且由此會(huì)導(dǎo)致成像缺陷，因此是不希望的。

期望地，例如提供一種流體處理結(jié)構(gòu)，其中采用一個(gè)或多個(gè)測(cè)量減少成像誤差的機(jī)會(huì)。

根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供一種用于光刻設(shè)備的流體處理結(jié)構(gòu)，所述流體處理結(jié)構(gòu)在從配置成包括浸沒(méi)流體的空間至流體處理結(jié)構(gòu)外部區(qū)域的邊界處相繼地設(shè)置有：彎液面釘扎特征，用以阻止浸沒(méi)流體沿離開所述空間的徑向向外的方向流動(dòng)通過(guò)；和彎液面釘扎特征的徑向外側(cè)的流體供給開口，用以供給可溶解于浸沒(méi)流體的流體，通過(guò)溶解至浸沒(méi)流體中而降低浸沒(méi)流體的表面張力。

根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供一種用于光刻設(shè)備的流體處理結(jié)構(gòu)，所述流體處理結(jié)構(gòu)在從配置用于包含浸沒(méi)流體的空間至流體處理結(jié)構(gòu)外部區(qū)域的邊界處相繼地設(shè)置有：氣刀，用以阻止浸沒(méi)流體沿離開所述空間的徑向向外的方向流動(dòng)通過(guò)；和表面張力降低流體開口，用以在氣刀的徑向外側(cè)提供表面張力降低流體。