[發明專利]氮化鋁基片的快速超精密拋光漿料及拋光清洗加工方法

有效

• 申請號: 201110242289.4
• 申請日: 2011-08-23
• 公開（公告）號: CN102391788B
• 公開（公告）日: 2014-11-26
• 發明（設計）人: 李家榮;馬超;唐會明
• 申請（專利權）人: 江蘇天恒納米科技股份有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;B24B55/00
• 代理公司: 南京正聯知識產權代理有限公司 32243
• 代理人: 盧霞

1.氮化鋁基片的快速超精密拋光漿料，其特征在于，所說漿料由一步和二步拋光漿料組成，其中一步拋光漿料包括20-40wt%大粒徑硅溶膠、0.05-5wt%pH調節劑及0.1-0.8wt%分散劑；二步拋光漿料包括20-40wt%小粒徑硅溶膠、0.02-3wt%pH調節劑及0.1-1.0wt%分散劑，所說的大粒徑硅溶膠的粒徑為120-180nm，所說的小粒徑硅溶膠的粒徑為30-60nm，所說的一步和二步拋光漿料中的pH調節劑為無機堿和有機堿，無機堿為氫氧化鈉、氫氧化鉀、氨水中的一種或兩種，有機堿為季銨鹽類有機堿、多胺堿、醇胺堿及其衍生物中的一種或幾種；一步和二步拋光漿料的分散劑為聚丙烯酸鈉、N一酰基乙二胺三乙酸鈉、N，N’一雙月桂酰基乙二胺二乙酸鈉、乙二胺三乙酸二鈉或乙二胺四乙酸二鈉。

2.一種應用權利要求1所述的氮化鋁基片的快速超精密拋光漿料的拋光清洗加工方法，其特征在于,包括下列步驟：

1）用一步拋光漿料拋光氮化鋁基片，選用聚氨酯拋光墊，拋光壓力為0.15-0.5MPa，拋光液流量為50-150mL/min，拋光30min后對拋光墊進行表面修整，

2）用二步拋光漿料拋光氮化鋁基片，選用復合型拋光墊，拋光壓力為0.1-0.3MPa，拋光液流量為50-150?mL?/min，拋光40min后對拋光墊進行表面修整,

3）對拋光后的氮化鋁基片用清洗液進行清洗。

3.根據權利要求2所述的拋光清洗加工方法，其特征在于，所述的聚氨酯拋光墊的表面粗糙度為5-10μm，表面開槽，開槽形式為平行與垂直交叉形，形狀為U型。

4.根據權利要求2所述的拋光清洗加工方法，其特征在于，所述的復合型拋光墊的表面粗糙度為3-5μm，表面無開槽。

5.根據權利要求2所述的拋光清洗加工方法，其特征在于，所述的聚氨酯拋光墊修整壓力為10-20Psi，修整時間為5-15min，所述復合型拋光墊的修整壓力為5-15Psi，修整時間為5-10min。

6.根據權利要求2所述的拋光清洗加工方法，其特征在于，所述的清洗液為溶劑型清洗液。

7.根據權利要求6所述的拋光清洗加工方法，其特征在于，所述的溶劑型清洗液包括醋酸酯、醇醚、烷烴和脂肪醇聚氧乙烯醚。

8.根據權利要求7所述的拋光清洗加工方法，其特征在于,所述的醋酸酯為丙二醇甲醚醋酸酯、乙二醇丁醚醋酸酯、二乙二醇丁醚醋酸酯、二乙二醇乙醚醋酸酯中的一種或幾種；所述的醇醚為乙二醇乙醚、丙二醇乙醚、三乙二醇乙醚中的一種或幾種；所述的烷烴為C₆-C₁₀的直鏈烷烴或環戊烷、甲基環己烷中的一種或幾種；所述的脂肪醇聚氧乙烯醚為JFC-1、JFC-2、JFC-3、JFC-4中的一種或多種。

9.根據權利要求2所述的拋光清洗加工方法，其特征在于，拋光后的氮化鋁基片的清洗方法為將氮化鋁基片豎直置于聚四氟乙烯花籃中，超聲清洗參數為：超聲頻率56KHz，超聲功率80-100%，超聲時間為20-40min。