[發明專利]一種步進光刻設備及光刻曝光方法有效
| 申請號： | 201110241791.3 | 申請日： | 2011-08-22 |
| 公開（公告）號： | CN102955368A | 公開（公告）日： | 2013-03-06 |
| 發明（設計）人： | 陳勇輝;吳立偉;張俊 | 申請（專利權）人： | 上海微電子裝備有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京連和連知識產權代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光輝 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 步進 光刻 設備 曝光 方法 | ||
1.一種步進光刻設備，包括：
一照明單元，用于提供曝光光束；
一工件臺，用于支撐一基底在大行程范圍內進行六自由度運動；
一掩模臺，用于支撐一掩模在曝光時候在小行程范圍內相對所述工件臺同步運動；
一投影物鏡，用于將掩模上圖形按預定比例投射至基底；
其特征在于，所述工件臺依次步進至曝光場后，所述掩模臺同步運動至所述工件臺對應的位置并同時曝光。
2.如權利要求1所述的步進光刻設備，其特征在于，所述投影物鏡的投影倍率為1∶5。
3.如權利要求1所述的步進光刻設備，其特征在于，所述掩模臺的步進行程小于30mm，所述工件臺的步進行程大于30mm。
4.如權利要求1所述的步進光刻設備，其特征在于，所述步進光刻設備還包括一位置測量系統。
5.如權利要求1所述的步進光刻設備，其特征在于，所述工件臺的水平向運動裝置為H型結構，垂向運動裝置為凸輪結構。
6.如權利要求1所述的步進光刻設備，其特征在于，所述掩模臺的水平向運動裝置為洛侖茲電機，垂向運動裝置為簧片機構。
7.如權利要求4所述的步進光刻設備，其特征在于，所述位置測量系統采用激光干涉儀或編碼尺。
8.如權利要求1所述的步進光刻設備，其特征在于，所述掩模臺同步運動至所述工件臺對應的XY和Rz位置。
9.一種使用如權利要求1至8任一項所述的步進光刻設備的光刻曝光方法，其特征在于，
步驟一、進行曝光前準備工作；
步驟二、工件臺步進至第一曝光場后，掩模臺同步運動至所述工件臺對應的位置并同時曝光；
步驟三、判斷是否已經完成全部曝光場的曝光，如果判斷結果是“否”，則返回步驟二；
如果判斷結果是“是”，則曝光結束。
10.如權利要求9所述的光刻曝光方法，其特征在于，所述步驟一包括上掩模，上基底，對所述基底實現全場對準。
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