[發(fā)明專(zhuān)利]一種工件臺(tái)質(zhì)量測(cè)校方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110241779.2
• 申請(qǐng)日: 2011-08-22
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102955367A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-03-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳立偉;董俊清
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 分類(lèi)號(hào): G03F7/20;G01G19/00
• 代理公司: 北京連和連知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11278
• 代理人: 王光輝

1.一種工件臺(tái)質(zhì)量測(cè)校方法，其特征在于，所述工件臺(tái)上安裝有電機(jī)動(dòng)子，位于所述工件臺(tái)下方的平衡質(zhì)量上安裝有電機(jī)定子，包括以下步驟：

步驟1，規(guī)劃所述工件臺(tái)的勻速運(yùn)動(dòng)軌跡；

步驟2，所述電機(jī)驅(qū)動(dòng)所述工件臺(tái)按照規(guī)劃的勻速運(yùn)動(dòng)軌跡做勻速運(yùn)動(dòng)，所述平衡質(zhì)量受到所述工件臺(tái)的作用力做相應(yīng)的勻速運(yùn)動(dòng)，所述工件臺(tái)采用閉環(huán)控制，所述平衡質(zhì)量采用開(kāi)環(huán)控制；

步驟3，根據(jù)所述平衡質(zhì)量的位移、工件臺(tái)相對(duì)于平衡質(zhì)量的位移分別計(jì)算獲得所述平衡質(zhì)量的速度v_{bm_rel}、工件臺(tái)相對(duì)于平衡質(zhì)量的速度v_{ls2bm_rel}；

步驟4，根據(jù)工件臺(tái)相對(duì)于平衡質(zhì)量的速度v_{ls2bm_rel}計(jì)算獲得所述電機(jī)的磁鐵擾動(dòng)力頻率f_cog；

步驟5，根據(jù)磁鐵擾動(dòng)力頻率f_cog和所述平衡質(zhì)量的質(zhì)量m_{bm_rel}計(jì)算獲得所述工件臺(tái)和所述平衡質(zhì)量的質(zhì)量比κ和所述工件臺(tái)的質(zhì)量m_ls。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工件臺(tái)質(zhì)量測(cè)校方法，其特征在于，所述電機(jī)動(dòng)子為線圈，所述電機(jī)定子為磁鐵。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工件臺(tái)質(zhì)量測(cè)校方法，其特征在于，步驟4中磁鐵擾動(dòng)力頻率的計(jì)算公式為其中τ為定子磁極極距。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工件臺(tái)質(zhì)量測(cè)校方法，其特征在于，步驟5中工件臺(tái)和平衡質(zhì)量的質(zhì)量比的計(jì)算公式為

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工件臺(tái)質(zhì)量測(cè)校方法，其特征在于，所述工件臺(tái)采用光柵尺測(cè)量獲得所述工件臺(tái)相對(duì)平衡質(zhì)量的位移。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工件臺(tái)質(zhì)量測(cè)校方法，其特征在于，所述平衡質(zhì)量采用光柵尺測(cè)量獲得所述平衡質(zhì)量的位移。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工件臺(tái)質(zhì)量測(cè)校方法，其特征在于，步驟3中所述平衡質(zhì)量的位移、工件臺(tái)相對(duì)于平衡質(zhì)量的位移分別微分后獲得所述平衡質(zhì)量的速度v_{bm_rel}、工件臺(tái)相對(duì)于平衡質(zhì)量的速度v_{ls2bm_rel}。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工件臺(tái)質(zhì)量測(cè)校方法，其特征在于，步驟3中還包括對(duì)所述平衡質(zhì)量的速度v_{bm_rel}、工件臺(tái)相對(duì)于平衡質(zhì)量的速度v_{ls2bm_rel}進(jìn)行高階多項(xiàng)式擬合。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工件臺(tái)質(zhì)量測(cè)校方法，其特征在于，步驟4和步驟5中間還包括對(duì)硅片臺(tái)或者平衡質(zhì)量勻速運(yùn)動(dòng)的速度進(jìn)行頻域識(shí)別，得到對(duì)應(yīng)速度下的磁鐵擾動(dòng)力頻率f_cog。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的工件臺(tái)質(zhì)量測(cè)校方法，其特征在于，所述對(duì)應(yīng)速度下的磁鐵擾動(dòng)力頻率f_cog為一組數(shù)據(jù)，記為G1。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的工件臺(tái)質(zhì)量測(cè)校方法，其特征在于，重新規(guī)劃所述工件臺(tái)的勻速運(yùn)動(dòng)軌跡，重復(fù)所述步驟1至所述步驟5，得到磁鐵擾動(dòng)力頻率f_cog的另一組數(shù)據(jù)，記為G2。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的工件臺(tái)質(zhì)量測(cè)校方法，其特征在于，根據(jù)公式對(duì)兩組頻率G1和G2進(jìn)行γ倍率匹配，取其誤差最小者作為兩種速度下的磁鐵擾動(dòng)力頻率值f_cog，其中f_cog1和f_cog2、v_bm1和v_bm2、v_ls2bm1和v_ls2bm12分別為兩組頻率G1和G2對(duì)應(yīng)的磁鐵擾動(dòng)力頻率、平衡質(zhì)量的速度、工件臺(tái)相對(duì)平衡質(zhì)量的速度。