[發明專利]一種投影曝光裝置與拼接方法

有效

• 申請號: 201110241777.3
• 申請日: 2011-08-22
• 公開（公告）號: CN102955366A
• 公開（公告）日: 2013-03-06
• 發明（設計）人: 張俊;唐世弋;陳勇輝
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京連和連知識產權代理有限公司 11278
• 代理人: 王光輝

1.一種投影曝光裝置，用于在基底表面形成曝光圖案，包括：可變狹縫，所述可變狹縫包括若干刀口，其特征在于，所述可變狹縫的刀口既可平移運動也可旋轉運動，根據待曝光圖案的排布，調整所述刀口來調整所述可變狹縫的視場的形狀和尺寸，使得所述視場邊緣從所述待曝光圖案之間穿過或使得所述視場包含了所述待曝光圖案區域；，從而使得所述視場之間的拼接線不穿過所述曝光圖案。

2.根據權利要求1所述的曝光裝置，其中，所述刀口數目為四個，通過調整所述刀口得到菱形、矩形或梯形視場。

3.根據權利要求1所述的曝光裝置，其中，所述刀口數目為六個，通過調整所述刀口得到六邊形視場。

4.根據權利要求1所述的曝光裝置，其中，所述刀口數目為三個，通過調整所述刀口得到三角形視場。

5.根據權利要求1所述的曝光裝置，其中，所述待曝光圖案的排布為矩形或非矩形排布。

6.根據權利要求5所述的曝光裝置，所述非矩形排布為菱形、六邊形、三角形或梯形排布。

7.一種投影曝光方法，包括：

(1)將掩模加載到掩模臺，所述掩模上具有待曝光圖案；

(2)將基底加載到工件臺；

(3)根據待曝光圖案的排布，將可變狹縫中的刀口進行平移和/或旋轉運動以調整所述可變狹縫的視場尺寸及形狀，使得所述視場邊緣從所述待曝光圖案之間穿過或使得所述視場包含了所述掩模上待曝光圖案區域；

(4)移動所述工件臺，將所述基底所需曝光區域移動到所述掩模下方，對所述基底逐場曝光，直至整個基底被全部曝光。

8.根據權利要求7所述的方法，其中，曝光方式為步進式或掃描式。

9.根據權利要求7所述的方法，其中，所述刀口數目為四個，通過調整所述刀口得到菱形、矩形或梯形視場。

10.根據權利要求7所述的方法，其中，所述刀口數目為六個，通過調整所述刀口得到六邊形視場。

11.根據權利要求7所述的方法，其中，所述刀口數目為三個，通過調整所述刀口得到三角形視場。

12.根據權利要求7所述的方法，其中，所述待曝光圖案的排布為矩形排布或非矩形排布。

13.根據權利要求12所述的方法，其中，所述非矩形分布為菱形、六邊形、三角形、或梯形排布。

14.根據權利要求13所述的方法，其中，所述非矩形排布為三角形排布或梯形排布，所述可變狹縫形成的視場的形狀為相應的三角形或梯形，所述視場邊緣從所述待曝光圖案之間穿過，整個基底分為兩個分別具有正立和倒立的三角形或梯形的區域，先對其中一個區域進行逐場曝光，將該區域完全曝光后旋轉基底，再對另一區域進行逐場曝光，直至整個基底曝光完畢。