[發明專利]平臺設備、光刻設備和定位物體臺的方法

有效

• 申請號: 201110240453.8
• 申請日: 2011-08-19
• 公開（公告）號: CN102385255A
• 公開（公告）日: 2012-03-21
• 發明（設計）人: 恩格爾伯塔斯·安東尼納斯·弗朗西絲克斯·范德帕斯奇;艾米爾·尤澤夫·梅勒妮·尤森;A·B·杰尤恩克;羅伯特·艾德加·范萊文
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 吳敬蓮

1.一種用于相對于基本上靜止的框架定位物體臺的平臺設備，所述平臺設備包括：

物體臺；

定位裝置，配置成相對于基本上靜止的框架定位所述物體臺；

測量系統，配置成提供所述物體臺的第一依賴位置的信號，所述測量系統包括：

安裝到所述物體臺上的第一測量系統部件，和

安裝到所述基本上靜止的框架上的第二測量系統部件，其中在使用中，所述第一和第二測量系統部件彼此協作以提供所述第一依賴位置的信號；

控制器，配置成產生用于控制所述定位裝置的控制信號；

安裝裝置，配置成將所述第二測量系統部件安裝到所述基本上靜止的框架上；和

位置傳感器，配置成提供第二依賴位置的信號，所述第二依賴位置的信號表示所述第二測量系統部件相對于所述基本上靜止的框架的位置，

其中所述控制器被構造且布置成在其輸入終端處接收所述第一和第二依賴位置的信號，其中所述控制信號基于所述第一和第二依賴位置的信號。

2.根據權利要求1所述的平臺設備，其中所述控制器被構造且布置成應用所述第二依賴位置的信號以調整所述第一依賴位置的信號。

3.根據權利要求1或2所述的平臺設備，其中所述測量系統是編碼器類型的測量系統，所述第二測量系統部件包括傳感器或傳感器陣列，所述第一測量系統部件包括傳感器目標物體，所述傳感器目標物體包括光柵或柵格。

4.根據權利要求1或2所述的平臺設備，其中所述測量系統是編碼器類型的測量系統，所述第一測量系統部件包括至少一個傳感器，所述第二測量系統部件包括傳感器目標物體，所述傳感器目標物體包括光柵或柵格。

5.根據前述權利要求中任一項所述的平臺設備，還包括補償器，所述補償器配置成至少部分地補償所述第二測量系統部件相對于所述基本上靜止的框架的移動和/或變形。

6.根據權利要求5所述的平臺設備，其中所述補償器包括減震器，所述減震器配置成對所述傳感器目標物體的移動和/或變形進行抑制。

7.根據權利要求6所述的平臺設備，其中所述減震器是被動式減震器或主動式減震器。

8.根據權利要求5至7中任一項所述的平臺設備，其中所述補償器包括反饋位置控制系統。

9.根據權利要求5至8中任一項所述的平臺設備，其中所述補償器包括減震器和位置控制器，所述減震器配置成基本上在所述傳感器目標物體的共振頻率范圍中進行補償，所述位置控制器配置成基本上在比所述共振頻率范圍低的頻率范圍中進行補償。

10.根據前述權利要求中任一項所述的平臺設備，其中所述位置傳感器包括一個或更多的電容式傳感器，所述電容式傳感器配置成提供所述第二依賴位置的信號。

11.一種光刻設備，包括：

照射系統，配置成調節輻射束；

圖案形成裝置支撐件，構造成支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝置能夠在輻射束的橫截面中將圖案賦予輻射束，以形成圖案化的輻射束；

襯底臺，構造成保持襯底；

投影系統，配置成將所述圖案化的輻射束投影到所述襯底的目標部分上；

定位裝置，配置成相對于基本上靜止的框架定位所述襯底臺或圖案形成裝置支撐件，所述投影系統被安裝于所述基本上靜止的框架；

測量系統，配置成提供所述襯底臺或圖案形成裝置支撐件的第一依賴位置的信號，所述測量系統包括：

安裝到所述襯底臺或圖案形成裝置支撐件上的第一測量系統部件，

安裝到所述基本上靜止的框架上的第二測量系統部件，其中在使用中，所述第一和第二部件彼此協作以提供所述第一依賴位置的信號；

控制器，配置成產生用于控制所述定位裝置的控制信號；

安裝裝置，配置成將所述第二部件安裝到所述基本上靜止的框架上；

位置傳感器，配置成提供第二依賴位置的信號，所述第二依賴位置的信號表示所述第二測量系統部件相對于所述基本上靜止的框架的位置，

其中所述控制器被構造且布置成在其輸入終端處接收所述第一和第二依賴位置的信號，其中所述控制信號基于所述第一和第二依賴位置的信號。

12.根據權利要求11所述的光刻設備，其中所述測量系統是編碼器類型的測量系統。