[發(fā)明專利]一種聚焦定位治療裝置及其系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110239198.5 | 申請(qǐng)日： | 2011-08-19 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN102319485A | 公開（公告）日： | 2012-01-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 陳明 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 陳明 |
| 主分類號(hào)： | A61N7/00 | 分類號(hào)： | A61N7/00 |
| 代理公司： | 深圳市科吉華烽知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 44248 | 代理人： | 胡吉科;韓英杰 |
| 地址： | 518019 廣東省深*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 聚焦 定位 治療 裝置 及其 系統(tǒng) | ||
1.一種聚焦定位治療裝置，其特征在于，包括：
第一波源組件（102），其上表面為凹球面構(gòu)件，所述凹球面構(gòu)件的球心為聚焦焦點(diǎn)（101）；
第二波源組件（103），包括至少2個(gè)安裝在所述凹球面構(gòu)件上的、分別獨(dú)立工作的波源晶片，所述波源晶片與所述凹球面構(gòu)件共球心；以及，
定位組件（104），安裝于所述第一波源組件（102）的中心位置，其軸線經(jīng)過所述聚焦焦點(diǎn)（101），所述定位組件（104）能夠相對(duì)于其軸線進(jìn)行旋轉(zhuǎn)和上下運(yùn)動(dòng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚焦定位治療裝置，其特征在于，所述第二波源組件（103）的波源晶片采用超聲晶片，所述超聲晶片的波源發(fā)射面以聚焦焦點(diǎn)（101）為球心。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚焦定位治療裝置，其特征在于，所述定位組件（104）采用B超探頭，所述B超探頭采用旋轉(zhuǎn)進(jìn)行斷層掃描。
4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的聚焦定位治療裝置，其特征在于，所述第二波源組件（103）包括3個(gè)獨(dú)立工作的波源晶片，所述波源晶片等距離安裝于所述凹球面構(gòu)件上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的聚焦定位治療裝置，其特征在于，所述第二波源組件（103）包括8個(gè)獨(dú)立工作的波源晶片，所述波源晶片等距離安裝于所述凹球面構(gòu)件上。
6.一種聚焦定位治療系統(tǒng)，其特征在于，包括：如權(quán)利要求1所述的聚焦定位治療裝置和晶片控制裝置，所述晶片控制裝置與所述第二波源組件（103）相連，用于分別啟動(dòng)與之一一對(duì)應(yīng)的波源晶片。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的聚焦定位治療系統(tǒng)，其特征在于，所述波源晶片采用超聲晶片。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的聚焦定位治療系統(tǒng)，其特征在于，還包括主機(jī)，所述聚焦定位治療裝置安裝于所述主機(jī)上。
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