[發明專利]利用鈦材料進行電離室X、γ能量響應補償的方法無效
| 申請號： | 201110239058.8 | 申請日： | 2011-08-19 |
| 公開（公告）號： | CN102955166A | 公開（公告）日： | 2013-03-06 |
| 發明（設計）人： | 靳根;錢鐘敏;劉倍;陳法國;徐園;王希濤;楊亞鵬 | 申請（專利權）人： | 中國輻射防護研究院 |
| 主分類號： | G01T1/185 | 分類號： | G01T1/185 |
| 代理公司： | 北京天悅專利代理事務所(普通合伙) 11311 | 代理人： | 田明;任曉航 |
| 地址： | 030006 *** | 國省代碼： | 山西;14 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 利用 材料 進行 電離室 能量 響應 補償 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種利用鈦材料進行電離室X、γ能量響應補償的方法，所述電離室的收集極(4)為鋁或鈦材質，高壓極(2)為不銹鋼材質，高壓極(2)外設有不銹鋼屏蔽外殼(1)，其特征在于：在不銹鋼高壓極(2)的內表面設置一層鈦質襯層(3)。
2.如權利要求1所述的利用鈦材料進行電離室X、γ能量響應補償的方法，其特征在于：不銹鋼高壓極(2)和屏蔽外殼(1)的總厚度應在保證電離室氣密性以及機械性能的基礎上不超過3mm。
3.如權利要求1或2所述的利用鈦材料進行電離室X、γ能量響應補償的方法，其特征在于：高壓極內表面的鈦質襯層(3)的厚度為0.2mm～2mm。
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