[發(fā)明專利]覆晶式半導體全波整流元件及其制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110235631.8 | 申請日: | 2011-08-17 |
| 公開(公告)號: | CN102956512A | 公開(公告)日: | 2013-03-06 |
| 發(fā)明(設計)人: | 黃文彬;吳文湖 | 申請(專利權)人: | 美麗微半導體股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/60 | 分類號: | H01L21/60;H01L21/58;H01L25/11 |
| 代理公司: | 北京科龍寰宇知識產(chǎn)權代理有限責任公司 11139 | 代理人: | 孫皓晨 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 覆晶式 半導體 整流 元件 及其 制造 方法 | ||
1.一種覆晶式半導體全波整流元件的制造方法,其特征在于,至少包含一顆PNNP型及/或一顆NPPN型覆晶、以及一片具有多根接腳的料片或基板,其中該PNNP型及/或NPPN型覆晶的全部焊點皆位于同一面,料片或基板的多根接腳分別與該PNNP型及/或NPPN型覆晶的焊點依照全波整流器的電路配置來焊接組合后,經(jīng)封裝成型及切腳即完成成品的制作。
2.根據(jù)權利要求1項所述的覆晶式半導體全波整流元件的制造方法,其特征在于,所述PNNP型及/或NPPN型覆晶的全部焊點皆排列在同一水平面上。
3.根據(jù)權利要求1所述的覆晶式半導體全波整流元件的制造方法,其特征在于,所述PNNP型覆晶中兩個相鄰的N極共構(gòu)及/或NPPN中兩個相鄰的P極共構(gòu)。
4.根據(jù)權利要求1所述的覆晶式半導體全波整流元件的制造方法,其特征在于,PNNP型及/或NPPN型覆晶的P極是以一般半導體硅晶片工藝技術或利用肖特基工藝技術所制成。
5.一種覆晶式半導體全波整流元件,其特征在于,包含:
一顆PNNP型及一顆NPPN型覆晶,該二覆晶彼此分離,且其全部的焊點皆位于同一面;
四根接腳,分別具有至少一導接端以及一電路連接端,其中所述四根接腳的導接端依照橋式整流器的電路配置分別與前述該二覆晶的焊點焊接組合,四個電路連接端可供外部電路電氣連接;以及
一封裝體,包覆在上述二覆晶及四根接腳外部,并且令四根接腳的電路連接端分別外露。
6.一種覆晶式半導體全波整流元件,其特征在于,包含:
一顆PNNP或NPPN型覆晶,其全部的焊點皆位于同一面;
三根接腳,分別具有至少一導接端以及一電路連接端,其中所述三根接腳的導接端依照中心抽頭式全波整流器的電路配置分別與覆晶的焊點焊接組合,三個電路連接端可供外部電路電氣連接;以及
一封裝體,包覆在上述覆晶及三根接腳外部,并且令三根接腳的電路連接端分別外露。
7.根據(jù)權利要求5或6所述的覆晶式半導體全波整流元件,其特征在于,所述覆晶的全部焊點皆排列在同一水平面上。
8.根據(jù)權利要求5或6所述的覆晶式半導體全波整流元件,其特征在于,所述接腳的電路連接端分別由封裝體向外部延伸以形成表面粘著型元件或插接型元件。
9.根據(jù)權利要求5或6所述的覆晶式半導體全波整流元件,其特征在于,所述PNNP型覆晶中兩個相鄰的N極共構(gòu)及/或NPPN中兩個相鄰的P極共構(gòu)。
10.根據(jù)權利要求5或6所述的覆晶式半導體全波整流元件,其特征在于,所述PNNP或NPPN型覆晶的P極具備一般半導體或肖特基勢壘的電氣特性。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





