[發明專利]放射線敏感性樹脂組合物、固化膜、固化膜的形成方法、濾色器以及濾色器的形成方法無效
| 申請號: | 201110235558.4 | 申請日: | 2011-08-10 |
| 公開(公告)號: | CN102375340A | 公開(公告)日: | 2012-03-14 |
| 發明(設計)人: | 米田英司;西信弘;兒玉誠一郎;豬俁克巳 | 申請(專利權)人: | JSR株式會社 |
| 主分類號: | G03F7/027 | 分類號: | G03F7/027;G02B5/20;G03F7/00 |
| 代理公司: | 北京三幸商標專利事務所 11216 | 代理人: | 劉激揚 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 放射線 敏感性 樹脂 組合 固化 形成 方法 濾色器 以及 | ||
1.一種放射線敏感性樹脂組合物,其含有,
[A]堿可溶性樹脂,其通過將(A1)選自不飽和羧酸和不飽和羧酸酐構成的群組中的至少1種化合物與(A2)含有環氧基的不飽和化合物共聚而得到、
[B]具有乙烯性不飽和鍵的聚合性化合物、
[C]放射線敏感性聚合引發劑、
[D]下式(1)表示的化合物,和
[E]作為有機酸或無機酸的化合物,
其在25℃下的粘度為1.0mPa·s~50mPa·s,
在式(1)中,m為2~6的整數,其中,式(1)中的亞烷基所具有的部分或全部氫原子任選被有機基團取代。
2.如權利要求1所述的放射線敏感性樹脂組合物,其中,[C]放射線敏感性聚合引發劑為O-酰基肟化合物。
3.如權利要求1所述的放射線敏感性樹脂組合物,其中,在[A]堿可溶性樹脂、[B]聚合性化合物和[C]放射線敏感性聚合引發劑中混和由[D]化合物和[E]化合物形成的脒鹽進行制備。
4.如權利要求3所述的放射線敏感性樹脂組合物,其中,上述脒鹽為磺酸鹽。
5.如權利要求1~4任意一項所述的放射線敏感性樹脂組合物,其用于形成作為層間絕緣膜、保護膜或墊片的固化膜。
6.一種放射線敏感性樹脂組合物的制造方法,其中,在[A]堿可溶性樹脂、[B]聚合性化合物和[C]放射線敏感性聚合引發劑中混和由[D]化合物和[E]化合物形成的脒鹽進行制備,該組合物在25℃下的粘度為1.0mPa·s~50mPa·s。
7.一種由權利要求5所述的放射線敏感性樹脂組合物形成的作為層間絕緣膜、保護膜或墊片的固化膜。
8.一種濾色器,其具有權利要求7所述的固化膜和在該固化膜上層疊、通過液晶取向劑形成的取向膜。
9.如權利要求8所述的濾色器,其中,上述液晶取向劑為包含具有光取向性基團的放射線敏感性聚合物的液晶取向劑,或為包含沒有光取向性基團的聚酰亞胺的液晶取向劑。
10.一種固化膜的形成方法,其具有,
(1)在基板上涂布權利要求5所述放射線敏感性樹脂組合物,形成涂膜的工序;
(2)在上述涂膜的至少一部分上照射放射線的工序;
(3)將上述照射了放射線的涂膜顯影的工序;和
(4)對上述顯影的涂膜進行焙燒的工序。
11.如權利要求10所述的固化膜的形成方法,其中,上述工序(4)的焙燒溫度為200℃以下。
12.一種濾色器的形成方法,其具有權利要求10所述的工序(1)~(4),和(5)在焙燒后的涂膜上涂布液晶取向劑,通過200℃以下的加熱形成取向膜的工序。
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