[發明專利]化學氣相沉積裝置

有效

• 申請號: 201110234249.5
• 申請日: 2011-08-12
• 公開（公告）號: CN102373440A
• 公開（公告）日: 2012-03-14
• 發明（設計）人: 許閏成;樸勝一
• 申請（專利權）人: SNT能源技術有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國

1.一種化學氣相沉積裝置，包括：

處理室，被配置為用來界定反應空間；

背板，放置于所述反應空間上方，并且在該背板的中部具有氣體入口；

氣體擴散構件，設置在該氣體入口的下方并且與該氣體入口分離，該氣體擴散構件被配置為用來擴散通過該氣體入口提供的工藝氣體，并且該氣體擴散元件通過第一耦合構件與該背板耦合；

噴頭，放置于所述背板和氣體擴散構件的下方并且與所述背板和氣體擴散構件分離，在該噴頭中通過打孔形成有多個噴孔，該噴頭的中部通過第二耦合構件與該氣體擴散構件耦合；以及

基座，設置在該噴頭的下方并且與該噴頭分離，該基座用于支撐襯底。

2.如權利要求1所述的裝置，其中所述第一耦合構件和第二耦合構件的至少其中之一是螺釘。

3.如權利要求1所述的裝置，其中該背板的下端部具有形成在其中的膨脹腔，該氣體擴散構件的一部分或全部放置在該膨脹腔內部，該膨脹腔具有比該氣體入口大的橫截面面積。

4.如權利要求1所述的裝置，其中該處理室具有六面體形狀，

其中該氣體擴散構件包括盤形的支撐板和形成在該支撐板的上表面上的四角錐，以及

其中該四角錐的每一個側面面對該處理室的角。

5.如權利要求4所述的裝置，其中該第一耦合構件放置于線性路徑上，該線性路徑從該四角錐的中心穿過該四角錐的角。

6.如權利要求1所述的裝置，其中該處理室具有六面體形狀，

其中該氣體擴散構件包括矩形板形狀的支撐板和形成在該支撐板的上表面上的錐體，以及

其中該支撐板的每一個側邊面對該處理室的角。

7.如權利要求6所述的裝置，其中該第一耦合構件放置于線性路徑上，該線性路徑從該錐體的中心穿過該支撐板的角。

8.如權利要求1所述的裝置，其中在該基座內部安裝有熱絲。

9.如權利要求1所述的裝置，其中該噴頭由鋁制成。

10.如權利要求1所述的裝置，還包括夾緊構件，該夾緊構件通過第三耦合構件與該背板耦合以支撐該噴頭的邊緣，其中在該噴頭的側面與該夾緊構件之間形成預定間隙。

11.如權利要求10所述的裝置，還包括插在該夾緊構件和該背板之間的熱阻構件，該熱阻構件的一側與該背板的下表面接觸，并且該熱阻構件的另一側與該噴頭的上表面接觸。

12.如權利要求10所述的裝置，其中該夾緊構件包括用于支撐該噴頭的下表面的水平部分和用于支撐該噴頭的側面的垂直部分，

其中該噴頭的邊緣的下部形成有用于與該夾緊構件的水平部分嚙合的溝槽。

13.如權利要求12所述的裝置，其中該熱阻構件是薄金屬板。

14.如權利要求13所述的裝置，其中該熱阻構件由鋁制成。

15.如權利要求12所述的裝置，其中該噴頭具有在其邊緣形成的橢圓形長孔，并且

該裝置還包括通過穿透該夾緊構件的水平部分而插入到該長孔中的第四耦合構件。

16.如權利要求15所述的裝置，其中該噴頭具有矩形板形狀，以及

其中所述夾緊構件、橢圓形長孔和第四耦合構件設置在該噴頭的每一個側面上。

17.如權利要求16所述的裝置，其中所述長孔和第四耦合構件成對地設置在該噴頭的每一個側面上。