[發明專利]一種耐激光輻照的漫反射金屬面板及其加工方法

有效

• 申請號: 201110233138.2
• 申請日: 2011-08-15
• 公開（公告）號: CN102407624A
• 公開（公告）日: 2012-04-11
• 發明（設計）人: 楊鵬翎;馮國斌;吳勇;王振寶;邵碧波;張檢民;葉錫生
• 申請（專利權）人: 西北核技術研究所
• 主分類號: B32B15/01
• 分類號: B32B15/01
• 代理公司: 西安智邦專利商標代理有限公司 61211
• 代理人: 王少文

1.一種耐激光輻照的漫反射金屬面板，包括表面噴砂處理為漫反射面的金屬基板，其特征在于：所述金屬基板的漫反射面上由內到外依次加工有鋅膜、鎳膜和金膜，所述鋅膜的厚度為7～10μm，所述鎳膜的厚度為20～40μm，所述金膜的厚度為1～5μm；所述金屬面板的材料為鋁或銅。

2.一種耐激光輻照的漫反射金屬面板的加工方法，其特征在于：包括以下步驟：

[1]金屬面板高溫熱處理去除內部應力；

[2]金屬面板表面噴砂處理，形成漫反射面，使漫反射面的反射率大于80％；

[3]金屬面板表面強堿氧化處理；

[4]金屬面板表面除光處理；

[5]金屬面板表面依次浸鋅、鍍鎳和鍍金，使漫反射面的反射率大于90％。

3.根據權利要求2所述的耐激光輻照的漫反射金屬面板的加工方法，其特征在于：所述噴砂處理過程包括噴粗砂和噴細砂兩步，所述粗砂的顆粒直徑為2mm，所述細砂的顆粒直徑為1mm。

4.根據權利要求2所述的耐激光輻照的漫反射金屬面板的加工方法，其特征在于：所述強堿氧化處理是將金屬面板放置在重量比為10％～30％的氫氧化鈉溶液中，時間小于10分鐘；

5.根據權利要求2所述的耐激光輻照的漫反射金屬面板的加工方法，其特征在于：所述表面除光處理是將面板放置在體積比為40％～60％的硝酸溶液中，時間為3～5秒。

6.根據權利要求2所述的耐激光輻照的漫反射金屬面板的加工方法，其特征在于：所述浸鋅處理過程為兩次，使用NaOH∶Zn的質量比為10∶1～14∶1的堿性鋅酸鹽鍍液，每次浸鋅時間大于30分鐘。