[發(fā)明專利]一種獲取高清晰聚焦離子束加工截面圖像的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110229968.8 | 申請日： | 2011-08-11 |
| 公開（公告）號： | CN102359974A | 公開（公告）日： | 2012-02-22 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 張濤 | 申請（專利權(quán)）人： | 上海華碧檢測技術(shù)有限公司 |
| 主分類號： | G01N23/225 | 分類號： | G01N23/225;G01N1/28;G01N1/32 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 200433 上海*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 獲取 清晰 聚焦 離子束 加工 截面 圖像 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種獲取高清晰聚焦離子束加工截面圖像的方法，其特征在于：該方法包括以下步驟：
A、將需要進(jìn)行分析的樣品置于聚焦離子束儀中進(jìn)行截面切拋加工，得到樣品截面；
B、將樣品從聚焦離子束儀中取出，使用腐蝕液對樣品進(jìn)行截面腐蝕；
C、將樣品截面進(jìn)行沖洗和吹干；
D、將樣品放入場發(fā)射電子顯微鏡中，找到截面后傾斜30°～45°，進(jìn)行截面的二次電子像觀察，獲得高清晰的聚焦離子束截面樣品圖像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種獲取高清晰聚焦離子束加工截面圖像的方法，其特征在于：所述步驟B中腐蝕液為BOE藥液或者按照HF：H2O=1：10的體積比配制的藥液。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種獲取高清晰聚焦離子束加工截面圖像的方法，其特征在于：所述HF的濃度為49%。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或者2所述的一種獲取高清晰聚焦離子束加工截面圖像的方法，其特征在于：所述步驟B中腐蝕液對樣品進(jìn)行腐蝕的時(shí)間為3～6秒。
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