[發明專利]用于多晶硅生產的供料系統和方法

有效

• 申請號: 201110229802.6
• 申請日: 2011-08-11
• 公開（公告）號: CN102923709A
• 公開（公告）日: 2013-02-13
• 發明（設計）人: 齊林喜;陳琳;劉占卿
• 申請（專利權）人: 內蒙古盾安光伏科技有限公司
• 主分類號: C01B33/035
• 分類號: C01B33/035
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 代易寧;譚祐祥

1.?一種用于多晶硅生產還原爐的供料系統，包括：

氫氣加熱器，其與氫氣供給源連接，用于接收來自氫氣供給源的氫氣并加熱氫氣；

三氯氫硅汽化器，其與三氯氫硅液體供給源相連，用于將來自三氯氫硅液體供給源的三氯氫硅液體汽化為三氯氫硅氣體；

至少第一和第二混合裝置，每個混合裝置都與氫氣加熱器和三氯氫硅汽化器流體連通地連接并分別從氫氣加熱器接收加熱的氫氣和從汽化器接收三氯氫硅氣體，其中第一混合裝置按照第一預定配比將接收的氫氣和三氯氫硅氣體混合為第一進料混合氣，且第二混合裝置按照第二預定配比將接收的氫氣和三氯氫硅氣體混合為第二進料混合氣；

至少第一和第二還原爐，分別與至少第一和第二混合裝置流體連通地連接，以便第一混合裝置將第一進料混合氣提供到第一還原爐，并且第二混合裝置將第二進料混合氣提供到第二還原爐。

2.?根據權利要求1所述的供料系統，其特征在于，所述第一預定配比不同于所述第二預定配比。

3.?根據權利要求1所述的供料系統，其特征在于，第一預定配比和第二預定配比各自都是可變化的。

4.?根據權利要求3所述的供料系統，其特征在于，第一預定配比和第二預定配比根據相應的第一和第二還原爐的生產階段而變化。

5.?根據權利要求1所述的供料系統，其特征在于，所述供料系統還包括：將氫氣加熱器分別流體連通地連接到至少第一和第二混合裝置的至少第一氫氣供給管路和第二氫氣供給管路，用于向各自混合裝置分別供給加熱后的氫氣；以及，將三氯氫硅汽化器分別流體連通地連接到至少第一和第二混合裝置的至少第一三氯氫硅供給管路和第二三氯氫硅供給管路，用于向各自混合裝置分別供給三氯氫硅氣體。

6.?根據權利要求5所述的供料系統，其特征在于，第一和第二氫氣供給管路各自設置有氫氣流量調節閥，以及第一和第二三氯氫硅供給管路上各自設置有三氯氫硅流量調節閥，相應的氫氣流量調節閥和相應的三氯氫硅流量調節閥被調節以便分別在第一混合裝置中產生具有第一預定配比的第一進料混合氣和在第二混合裝置中產生具有第二預定配比的第二進料混合氣。

7.?根據權利要求6所述的供料系統，其特征在于，所述供料系統還包括控制器，其配置為與各流量調節閥通信連接，并根據對應于各自還原爐的預先確定的配比曲線來調節相應的氫氣流量調節閥和三氯氫硅流量調節閥中的至少一個。

8.?根據權利要求6所述的供料系統，其特征在于，在各供給管路上分別設置流量計，用于計量通過相應管路的氫氣和三氯氫硅氣體之一的流量；所述供料系統還包括與各流量計和各流量調節閥通信連接的控制器，所述控制器配置為根據第一預定配比控制第一氫氣供給管路上的氫氣流量調節閥和第一三氯氫硅供給管路上的三氯氫硅流量調節閥以便提供第一進料混合氣，根據第二預定配比控制第二氫氣供給管路上的氫氣流量調節閥和第二三氯氫硅供給管路上的三氯氫硅流量調節閥以便提供第二進料混合氣，并且根據來自各自管路上的各流量計的信號反饋控制相應的流量調節閥。

9.?根據權利要求1－8中任意一項所述的供料系統，其特征在于，第一預定配比和第二預定配比在6：1至4：1之間的范圍內變化。

10.?根據權利要求1－8中任意一項所述的供料系統，其特征在于，所述第一和第二混合裝置是靜態混合器。

11.?一種用于多晶硅生產還原爐的供料系統，包括：

多個還原爐；

多個靜態混合器，其中每個靜態混合器的出口流體連通地連接到多個還原爐中相應一個的進料口；

氫氣加熱器，通過第一組供給管路連接到多個靜態混合器中的每一個的第一入口，并將氫氣分別供給到每個靜態混合器，其中所述第一組供給管路包括多個第一供給通道，每個第一供給通道將氫氣加熱器流體連通地連接到相應的一個靜態混合器的第一入口；

三氯氫硅汽化器，通過第二組供給管路連接到多個靜態混合器中的每一個的第二入口，并將汽化后的三氯氫硅氣體分別供給到每個靜態混合器，其中所述第二組供給管路包括多個第二供給通道，每個第二供給通道將三氯氫硅汽化器連通地連接到相應的一個靜態混合器的第二入口；

其中各靜態混合器能夠以不同的氫氣和三氯氫硅的配比將氫氣和三氯氫硅氣體混合并將其供給到各相應的還原爐中。