[發明專利]共軛二烯系聚合物及其制備方法，以及聚合物組合物有效
| 申請號： | 201110229552.6 | 申請日： | 2011-08-11 |
| 公開（公告）號： | CN102382257A | 公開（公告）日： | 2012-03-21 |
| 發明（設計）人： | 伊藤真;稻垣勝成;大島真弓 | 申請（專利權）人： | 住友化學株式會社 |
| 主分類號： | C08F236/10 | 分類號： | C08F236/10;C08F230/08;C08L9/06;C08K13/02;C08K3/36;C08K3/04 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 李新紅 |
| 地址： | 日本國*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 共軛 二烯系 聚合物 及其 制備 方法 以及 組合 | ||
1.一種共軛二烯系聚合物，所述共軛二烯系聚合物具有基于共軛二烯的單體單元、基于由下式(1)表示的化合物的單體單元和基于由下式(2)表示的化合物的單體單元，
其中R11表示氫原子或烴基，m是整數0或1，R12表示亞烴基，并且X1、X2和X3各自獨立地表示取代的氨基或任選地具有取代基的烴基，條件是X1、X2和X3中的至少一個是取代的氨基，
其中R21表示氫原子或烴基，n是整數0或1，R22表示亞烴基，并且A表示取代的氨基或含氮雜環基。
2.根據權利要求1所述的共軛二烯系聚合物，其中式(1)中的m是0。
3.根據權利要求1或2所述的共軛二烯系聚合物，其中式(2)中的R21是氫原子，n是1，R22是由下式(2-Y)表示的基團，并且A是取代的氨基，
其中r是0至5的整數，并且當r是1至5的整數時，(CH2)r是苯環上的取代基，并且(CH2)r連接至A，而當r是0時，(CH2)r表示苯環與A之間的鍵。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的共軛二烯系聚合物，其中相對于100摩爾％的基于共軛二烯的單體單元的含量，所述共軛二烯系聚合物的乙烯基結合量為20摩爾％以上并且70摩爾％以下。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的共軛二烯系聚合物，其中相對于100重量％的所述共軛二烯系聚合物，基于由式(1)表示的化合物的單體單元的含量為0.01至20重量％，并且基于由式(2)表示的化合物的單體單元的含量為0.01至20重量％。
6.一種共軛二烯系聚合物組合物，所述共軛二烯系聚合物組合物包含根據權利要求1至5中任一項所述的共軛二烯系聚合物和增強劑，其中相對于100重量份的所述共軛二烯系聚合物，所述增強劑的含量為10至150重量份。
7.根據權利要求6所述的共軛二烯系聚合物組合物，其中所述組合物包含二氧化硅和炭黑作為所述增強劑，并且二氧化硅的含量與炭黑的含量的重量比(二氧化硅的含量∶炭黑的含量)為2∶1至50∶1。
8.一種用于制備共軛二烯系聚合物的方法，所述方法包括：在烴溶劑中，使用堿金屬催化劑，將含有共軛二烯的單體組分、由下式(1)表示的化合物和由下式(2)表示的化合物進行聚合，
其中R11表示氫原子或烴基，m是0或1，R12表示亞烴基，并且X1、X2和X3各自獨立地表示取代的氨基或任選地具有取代基的烴基，條件是X1、X2和X3中的至少一個為取代的氨基，
其中R21表示氫原子或烴基，n是0或1，R22表示亞烴基，并且A表示取代的氨基或含氮雜環基。
9.根據權利要求8所述的用于制備共軛二烯系聚合物的方法，其中式(1)中的R11是氫原子，并且式(1)中的m是0。
10.根據權利要求8或9所述的用于制備共軛二烯系聚合物的方法，其中式(2)中的R21是氫原子，n是1，R22是由下式(2-Y)表示的基團，并且A是取代的氨基，
其中r是0至5的整數，并且當r是1至5的整數時，(CH2)r是苯環上的取代基，并且(CH2)r連接至A，而當r是0時，(CH2)r表示苯環與A之間的鍵。
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