[發(fā)明專利]具微機(jī)電組件的封裝結(jié)構(gòu)的制法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110229530.X | 申請(qǐng)日: | 2011-08-09 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102874745A | 公開(公告)日: | 2013-01-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林辰翰;張宏達(dá);劉正祥;廖信一;邱世冠 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 矽品精密工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | B81C1/00 | 分類號(hào): | B81C1/00 |
| 代理公司: | 北京戈程知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11314 | 代理人: | 程偉;王錦陽 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 微機(jī) 組件 封裝 結(jié)構(gòu) 制法 | ||
1.一種具微機(jī)電組件的封裝結(jié)構(gòu)的制法,其包括:
準(zhǔn)備一具有相對(duì)的第一表面與第二表面的板體、以及一具有相對(duì)的第三表面與第四表面的晶片,該板體第一表面上具有多個(gè)凹槽、多個(gè)第一對(duì)位鍵與對(duì)應(yīng)位于各該凹槽周緣的多個(gè)密封環(huán),該第三表面上具有多個(gè)微機(jī)電組件、多個(gè)電性接點(diǎn)與多個(gè)第二對(duì)位鍵;
將該板體與該晶片結(jié)合,其結(jié)合方式是令各該第一對(duì)位鍵對(duì)應(yīng)至各該第二對(duì)位鍵,使該板體的密封環(huán)接置于該晶片的第三表面上,而令各該微機(jī)電組件對(duì)應(yīng)設(shè)于各該凹槽與密封環(huán)中;
從該第二表面薄化該板體;
于該第二表面上形成對(duì)應(yīng)各該第二對(duì)位鍵的第三對(duì)位鍵;
形成金屬層于該第二表面上;
切割該板體,以形成露出該等電性接點(diǎn)與該等第二對(duì)位鍵的板體開口;
以多個(gè)金屬線連接該電性接點(diǎn)與該金屬層;
以粘著劑將多個(gè)塊體對(duì)應(yīng)粘設(shè)于各該第二對(duì)位鍵上,且該塊體的頂面高于該金屬線;
于該晶片的第三表面上形成封裝層,以包覆該板體、電性接點(diǎn)、塊體與金屬線;
從該封裝層的頂面移除部分厚度的該封裝層、部分該金屬線與部分該塊體,以外露該金屬線的一端與該塊體;以及
借由該第二對(duì)位鍵來對(duì)位,并于該封裝層上形成多個(gè)金屬導(dǎo)線,令該金屬導(dǎo)線借由該金屬線電性連接至該電性接點(diǎn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具微機(jī)電組件的封裝結(jié)構(gòu)的制法,其特征在于,該制法還包括于形成該金屬導(dǎo)線之前,于該封裝層上形成第一絕緣層,該第一絕緣層具有多個(gè)外露該金屬線的第一絕緣層開口,且該金屬導(dǎo)線是形成于該第一絕緣層開口處以電性連接該金屬線。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的具微機(jī)電組件的封裝結(jié)構(gòu)的制法,其特征在于,該制法還包括于該第一絕緣層與金屬導(dǎo)線上形成第二絕緣層,且該第二絕緣層具有多個(gè)外露部分該金屬導(dǎo)線的第二絕緣層開口。
4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的具微機(jī)電組件的封裝結(jié)構(gòu)的制法,其特征在于,于形成該金屬導(dǎo)線之后,還包括于該金屬導(dǎo)線上形成焊球。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具微機(jī)電組件的封裝結(jié)構(gòu)的制法,其特征在于,該第三對(duì)位鍵為開孔。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具微機(jī)電組件的封裝結(jié)構(gòu)的制法,其特征在于,該塊體的數(shù)量為兩個(gè),且分別位于該晶片的周緣處任意相對(duì)兩側(cè)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具微機(jī)電組件的封裝結(jié)構(gòu)的制法,其特征在于,該等凹槽是借由深反應(yīng)式離子蝕刻、氫氧化鉀或氫氧化四甲基銨而蝕刻產(chǎn)生。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具微機(jī)電組件的封裝結(jié)構(gòu)的制法,其特征在于,該密封環(huán)的材質(zhì)為玻璃粉、環(huán)氧樹脂、干膜、金、銅、銦化金、焊料、鍺、鍺化鋁、或硅鍺。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具微機(jī)電組件的封裝結(jié)構(gòu)的制法,其特征在于,該金屬層的材質(zhì)為鋁/銅。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具微機(jī)電組件的封裝結(jié)構(gòu)的制法,其特征在于,該塊體的材質(zhì)為玻璃或含硅的基材。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具微機(jī)電組件的封裝結(jié)構(gòu)的制法,其特征在于,該粘著劑的材質(zhì)為玻璃粉、環(huán)氧樹脂、或干膜。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具微機(jī)電組件的封裝結(jié)構(gòu)的制法,其特征在于,該微機(jī)電組件為陀螺儀、加速度計(jì)或射頻微機(jī)電組件。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具微機(jī)電組件的封裝結(jié)構(gòu)的制法,其特征在于,該制法還包括進(jìn)行切單制程,以得到多個(gè)具微機(jī)電組件的封裝結(jié)構(gòu)。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具微機(jī)電組件的封裝結(jié)構(gòu)的制法,其特征在于,制作該第三對(duì)位鍵時(shí)是以對(duì)準(zhǔn)儀進(jìn)行定位與曝光,之后再進(jìn)行顯影和蝕刻制程,以形成該第三對(duì)位鍵。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于矽品精密工業(yè)股份有限公司,未經(jīng)矽品精密工業(yè)股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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