[發(fā)明專利]一種均勻受光的曬被架無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110229312.6 | 申請日: | 2011-08-11 |
| 公開(公告)號: | CN102296448A | 公開(公告)日: | 2011-12-28 |
| 發(fā)明(設計)人: | 錢亮 | 申請(專利權)人: | 南通芯迎設計服務有限公司 |
| 主分類號: | D06F57/00 | 分類號: | D06F57/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 226006 江蘇省南通市*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 均勻 曬被架 | ||
1.一種均勻受光的曬被架,其特征在于:所述曬被架具有放置在地面上的起支撐作用的底座,所述底座上方具有擱被支架,所述擱被支架成屋脊形跨在所述底座上,所述擱被支架兩個側面為兩個相同的由桿狀物形成的等腰三角形,連接兩個等腰三角形相對的兩個腰上延伸有多根平行設置的用于擱置被子的直桿。
2.如權利要求1所述的均勻受光的曬被架,其特征在于:所述等腰三角形的兩個底角小于或等于30度。
3.如權利要求1所述的均勻受光的曬被架,其特征在于:所述桿狀物和直桿均由不銹鋼制成。
4.如權利要求1所述的均勻受光的曬被架,其特征在于:所述曬被架由不銹鋼整體形成。
5.如權利要求1所述的均勻受光的曬被架,其特征在于:所述直桿插在兩個等腰三角形的腰上,為可旋轉結構。
6.如權利要求1所述的均勻受光的曬被架,其特征在于:所述底座由較重材料制成。
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