[發明專利]一種制造磁取向為輻射狀的環狀磁體的方法

有效

• 申請號: 201110227854.X
• 申請日: 2011-08-10
• 公開（公告）號: CN102360914A
• 公開（公告）日: 2012-02-22
• 發明（設計）人: 張淑華
• 申請（專利權）人: 張淑華
• 主分類號: H01F41/02
• 分類號: H01F41/02;H01F7/02;B22F3/16
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種制造磁取向為輻射狀的環狀磁體的方法，所述環狀磁體的制備過程包括配料，制粉，取向壓型，燒結，機加工；其特征在于：在取向壓型時，采用垂直于環形模腔(11)軸向，且以環形模腔(11)橫截面的圓心為中心的平面輻射狀磁場，對環形模腔(11)中的磁粉進行取向，所述環形模腔(11)中設置有用于導磁的內磁極(12)，所述內磁極(12)設置在輻射狀磁場的中心，所述輻射狀磁場通過提供輻射狀磁場的裝置(10)產生，所述提供輻射狀磁場的裝置(10)由在一個平面內設置的呈輻射狀的環繞環形模腔的緊密排布的針狀導磁棒(13)構成，所述針狀導磁棒(13)用于引導外加磁場形成輻射狀磁場，取向過程中，輻射狀磁場沿環形模腔(11)的軸向往復運動，從而對環形模腔(11)中的磁粉進行取向，并且，對所述磁體進行單極輻射充磁飽和后，在磁體的外圓柱面上，圓周方向的表場波動低于7％，軸向的表場波動低于7％。

2.根據權利要求1所述的制造磁取向為輻射狀的環狀磁體的方法，其特征是所述的磁體為釹鐵硼系永磁材料，或釤鈷永磁材料，或粘結永磁材料，或干法異性鐵氧體材料。

3.根據權利要求1所述的制造磁取向為輻射狀的環狀磁體的方法，其特征是沿圓周方向的表場波動低于5％，或沿軸向的表場波動低于5％。

4.根據權利要求1所述的制造磁取向為輻射狀的環狀磁體的方法，其特征是沿圓周方向的表場波動低于4％，或沿軸向的表場波動低于4％。

5.根據權利要求1所述的制造磁取向為輻射狀的環狀磁體的方法，其特征是沿圓周方向的表場波動低于3％，或沿軸向的表場波動低于3％。

6.根據權利要求1-5之任一所述的制造磁取向為輻射狀的環狀磁體的方法，其特征是所述提供輻射狀磁場的裝置沿模腔設置2套或2套以上。

7.根據權利要求1-5之任一所述的制造磁取向為輻射狀的環狀磁體的方法，其特征是所述外加磁場由纏繞在針狀導磁棒上的通電線圈(14)提供，或者，所述外加磁場由永磁體或者電磁鐵提供。