[發(fā)明專利]一種推拉力測試通用裝置

無效

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• 申請日: 2011-08-09
• 公開（公告）號: CN102410956A
• 公開（公告）日: 2012-04-11
• 發(fā)明（設計）人: 付秀國
• 申請（專利權）人: 利華科技（蘇州）有限公司
• 主分類號: G01N3/02
• 分類號: G01N3/02;G01M99/00
• 代理公司: 蘇州廣正知識產(chǎn)權代理有限公司 32234
• 代理人: 張利強

技術領域

本發(fā)明涉及一種測試裝置，特別是涉及一種推拉力測試通用裝置。

背景技術

在各類電子或機械產(chǎn)品中常常會有接口、插頭、連接器或按鍵等裝置，而在拆裝或使用所述電子或機械產(chǎn)品時，需要插拔或按壓所述接口、插頭、連接器或按鍵，其接口、插頭、連接器或按鍵的插拔力或按壓力打大小會直接影響到電子或機械產(chǎn)品的性能及使用壽命。故一般電子或機械產(chǎn)品都需要做推力或拉力的測試。

當前，推拉力測試裝置采用手持方式來調整待測器件、材料的位置，無法保證待測物和推頭的垂直性。由于人員的差異，測試的手法差異比較大，測試結果差異也比較大，相互之間不能進行比較，不能很好的管控工藝的變化，只能簡單的進行測試，以供工藝工程師參考。

發(fā)明內容

本發(fā)明主要解決的技術問題是提供一種推拉力測試通用裝置，能夠保證測試物和推拉力頭的垂直性，測試數(shù)據(jù)穩(wěn)定可靠，使測試數(shù)據(jù)做到前后可比較的目的。

為解決上述技術問題，本發(fā)明采用的一個技術方案是：提供了一種推拉力測試通用裝置，包括底部平臺和側邊平臺，所述的側邊平臺安裝在底部平臺的上部，與底部平臺垂直固定在一起，所述的底部平臺的下部裝有軸調整裝置。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述的底部平臺上布有矩陣型的定位孔。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述的側邊平臺上布有矩陣型的定位孔。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述的底部平臺和側邊平臺的尺寸大小相同。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述的軸調整裝置進行X軸和Y軸調整。

本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明的推拉力測試通用裝置，是一種可以使待測物和推拉力測試頭保持垂直的通用裝置，以保證測試物和推拉力頭的垂直性，測試數(shù)據(jù)穩(wěn)定可靠，使測試數(shù)據(jù)做到前后可比較的目的。

附圖說明

圖1是本發(fā)明推拉力測試通用裝置一較佳實施例的立體結構示意圖；

圖2是本發(fā)明推拉力測試通用裝置一較佳實施例的正面結構示意圖；

附圖中各部件的標記如下：1、底部平臺，2、側邊平臺，3、軸調整裝置，11、定位孔，21、定位孔。

具體實施方式

下面結合附圖對本發(fā)明的較佳實施例進行詳細闡述，以使本發(fā)明的優(yōu)點和特征能更易于被本領域技術人員理解，從而對本發(fā)明的保護范圍做出更為清楚明確的界定。

請參閱圖1和圖2，圖1和圖2分別為本發(fā)明推拉力測試通用裝置一較佳實施方式的立體和正面的結構示意圖。該推拉力測試通用裝置包括底部平臺1和側邊平臺2，側邊平臺2安裝在底部平臺1的上部，與底部平臺1垂直固定在一起，底部平臺1的下部裝有軸調整裝置3，該軸調整裝置3進行X軸和Y軸調整，即可以前、后、左、右的進行調整。

本發(fā)明推拉力測試通用裝置中的底部平臺1和側邊平臺2的尺寸大小相同，其尺寸均為148mm*100mm*12mm。底部平臺1上布有矩陣型的定位孔11，用于固定待測物，并且底部平臺1下部裝有軸調整裝置3，使待測物體和推拉頭能保持垂直。側邊平臺2上布有矩陣型的定位孔21，可以將待測物垂直固定在側邊平臺2上，同時側邊平臺2上和底部平臺為緊密固定在一起，隨著調整底部平臺1來調整被測物的裝置。

本發(fā)明中推拉力測試通用裝置的使用步驟如下：

（1）、將待測物根據(jù)測試要求固定在底部平臺1或側邊平臺2上；

（2）、調整軸調整裝置3的位置，使待測物和推拉力頭保持垂直；

（3）、執(zhí)行測試程序進行測試；?????????????????????????????????

（4）、收集測試數(shù)據(jù)；再次調整測試位置；

（5）、重復步驟2至步驟4，直至所有測試測試完成。

本發(fā)明的推拉力測試通用裝置，主要用于表面貼裝器件、天線、機構組件的抗剪切、抗拉伸能力的測試，用于評估組件品質和監(jiān)控組裝焊接工藝的工藝穩(wěn)定性。該推拉力測試通用裝置，是一種可以使待測物和推拉力測試頭保持垂直的通用裝置，以保證測試物和推拉力頭的垂直性，測試數(shù)據(jù)穩(wěn)定可靠，使測試數(shù)據(jù)做到前后可比較的目的。

以上所述僅為本發(fā)明的實施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內。