[發明專利]一種電路輻照性能仿真方法及設備

無效

• 申請號: 201110226452.8
• 申請日: 2011-08-09
• 公開（公告）號: CN102289546A
• 公開（公告）日: 2011-12-21
• 發明（設計）人: 卜建輝;畢津順;韓鄭生;羅家俊
• 申請（專利權）人: 中國科學院微電子研究所
• 主分類號: G06F17/50
• 分類號: G06F17/50;H01L21/00
• 代理公司: 北京漢昊知識產權代理事務所(普通合伙) 11370
• 代理人: 朱海波

1.一種電路輻照性能仿真方法，其特征在于，所述方法包括：

a)對器件進行輻照實驗；

b)提取每種器件的測試數據；

c)基于所述測試數據建立每種器件的輻照模型；

d)基于為每種器件建立的輻照模型以及組成電路的各個器件之間的邏輯關系，預測由多個器件組成的電路的輻照性能。

2.根據權利要求1中所述的方法，其特征在于，在步驟a)和b)中，分別在對器件輻照前和不同的總劑量輻照后提取每種器件的一組測試數據。

3.根據權利要求1中所述的方法，其特征在于，在步驟c)中，將對經過特定總劑量輻照的器件測試獲得的數據以及總劑量輻照數值代入預先設定的輻照模型，求得該器件的輻照模型參數，從而建立該器件的輻照模型。

4.根據權利要求1中所述的方法，其特征在于，在步驟d)中，通過軟件仿真將構成電路的器件之間邏輯關系用函數表達，然后將已經建立的各個器件的輻照模型代入該函數獲得電路輻照模型，仿真該電路在不同總劑量輻照下的輸入輸出特征曲線，預測所述電路的輻照性能。

5.根據權利要求1或4中所述的方法，其特征在于，根據預測的電路輻照性能變化調整電路設計方案，以補償或減輕由于輻照導致的電路性能下降。

6.根據權利要求1或4中所述的方法，其特征在于，根據預測的電路輻照性能變化估算出電路在實際輻照條件下的使用壽命。

7.一種電路輻照性能仿真設備，其特征在于，包括：

輻照實驗裝置(601)，用于完成對器件的輻照處理；

數據提取裝置(602)，用于提取每種器件的測試數據；

輻照器件模型表達裝置(603)，用于建立每種器件的輻照模型；以及

電路仿真預測裝置(605)，用于基于為每種器件建立的輻照模型，預測由多個器件組成的電路輻照性能。

8.根據權利要求7中所述的設備，其特征在于，所述數據提取裝置(602)分別在對器件輻照前和不同的總劑量輻照后提取每種器件的一組測試數據。

9.根據權利要求7中所述的設備，其特征在于，還包括模型參數提取裝置(604)，用于根據所述數據提取裝置(602)提取的測試數據、輻照實驗裝置(601)輻照的總輻照劑量以及輻照器件模型表達裝置(603)對每種器件設定的輻照模型，求得該器件的輻照模型參數。

10.根據權利要求9中所述的設備，其特征在于，所述電路仿真預測裝置(605)通過軟件仿真將構成電路的器件之間邏輯關系用函數表達，然后輻照器件模型表達裝置(603)的器件模型以及來自模型參數提取裝置(604)的輻照模型參數代入該函數獲得電路輻照模型。

11.根據權利要求9中所述的設備，其特征在于，所述電路仿真預測裝置(605)仿真該電路在不同總劑量輻照下的輸入輸出特征曲線，預測所述電路的輻照性能。

12.根據權利要求11中所述的設備，其特征在于，所述輻照性能包括器件在輻照條件下的使用壽命、性能參數漂移方向和程度。