[發(fā)明專利]一種測(cè)量FET溝道溫度的裝置及方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110223026.9 | 申請(qǐng)日: | 2011-08-04 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102313613A | 公開(公告)日: | 2012-01-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王建輝;劉新宇;王鑫華;龐磊;陳曉娟;袁婷婷;羅衛(wèi)軍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院微電子研究所 |
| 主分類號(hào): | G01K11/00 | 分類號(hào): | G01K11/00 |
| 代理公司: | 北京市德權(quán)律師事務(wù)所 11302 | 代理人: | 王建國(guó) |
| 地址: | 100029 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 測(cè)量 fet 溝道 溫度 裝置 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及集成電路技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種將高低溫探針臺(tái)和脈沖分析儀聯(lián)用并在FET漏端施加脈沖電壓,從而測(cè)量FET溝道溫度的裝置及方法。
背景技術(shù)
溝道溫度測(cè)量技術(shù)廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體器件的設(shè)計(jì)、檢測(cè)和使用過程中,器件溝道溫度測(cè)量結(jié)果可用于設(shè)計(jì)器件結(jié)構(gòu),制定散熱方案、確定器件工作條件和選擇器件老化溫度等多個(gè)方面。現(xiàn)有的用于測(cè)量半導(dǎo)體器件溝道溫度的方法及其優(yōu)缺點(diǎn)如表1所示。
表1??現(xiàn)有的用于測(cè)量半導(dǎo)體器件溝道溫度的方法及其優(yōu)缺點(diǎn)
發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述問題,本發(fā)明提出了一種的將高低溫探針臺(tái)和脈沖分析儀聯(lián)用并在FET漏端施加脈沖電壓,從而測(cè)量FET溝道溫度的裝置及方法。
本發(fā)明提供的測(cè)量FET溝道溫度的裝置包括高低溫探針臺(tái),脈沖分析儀,以及,第I探針,第II探針、第III探針,F(xiàn)ET置于所述高低溫探針臺(tái)上,所述脈沖分析儀利用所述第I探針在所述FET的柵端施加直流偏置電壓,所述脈沖分析儀利用所述第II探針在所述FET的漏端施加脈沖電壓,所述FET的源端利用所述第III探針與所述脈沖分析儀共同接地。
基于本發(fā)明提供的測(cè)量FET溝道溫度的裝置的FET溝道溫度的測(cè)量方法包括:
選擇在FET的柵端施加的直流偏置電壓值;
維持高低溫探針臺(tái)的溫度,使之處于基準(zhǔn)溫度,在FET的柵端施加所選擇值的直流偏置電壓,在FET的漏端施加脈沖電壓,連續(xù)改變所述脈沖電壓的基準(zhǔn)值,使得FET耗散功率連續(xù)改變,利用脈沖分析儀得到通過FET的電流值;
在同一坐標(biāo)系中,以通過FET的電流值為縱坐標(biāo),以漏端脈沖電壓基準(zhǔn)值為橫坐標(biāo),繪制不同耗散功率條件下,通過FET的電流值-漏端脈沖電壓基準(zhǔn)值的平滑線散點(diǎn)圖,形成第I曲線簇,所述第I曲線簇中的每條曲線對(duì)應(yīng)一個(gè)FET耗散功率;
在不同耗散功率條件下,通過FET的電流值-漏端脈沖電壓值的平滑線散點(diǎn)圖上,作垂直于漏端脈沖電壓值坐標(biāo)軸的一條垂線,描出所述垂線與第I曲線簇中的各條曲線的交點(diǎn),確定各交點(diǎn)對(duì)應(yīng)的通過FET的電流值,以FET耗散功率為縱坐標(biāo),以通過FET的電流值為橫坐標(biāo),繪制FET耗散功率-通過FET的電流值的平滑線散點(diǎn)圖;
維持施加在FET漏端的脈沖電壓的基準(zhǔn)值,使之處于0V,在FET的柵端施加所選擇值的直流偏置電壓,在FET的漏端施加脈沖電壓,利用高低溫探針臺(tái)的溫度控制裝置,連續(xù)改變高低溫探針臺(tái)的溫度,并使得FET溝道溫度達(dá)到高低溫探針臺(tái)的溫度,利用脈沖分析儀得到通過FET的電流值;
在同一坐標(biāo)系中,以通過FET的電流值為縱坐標(biāo),以漏端脈沖電壓值為橫坐標(biāo),繪制不同F(xiàn)ET溝道溫度條件下,通過FET的電流值-漏端脈沖電壓值的平滑線散點(diǎn)圖,形成第II曲線簇,所述第II曲線簇中的每條曲線對(duì)應(yīng)一個(gè)FET溝道溫度;
在不同F(xiàn)ET溝道溫度條件下,通過FET的電流值-漏端脈沖電壓值的平滑散點(diǎn)圖上,作垂直于漏端脈沖電壓值坐標(biāo)軸的一條垂線,描出所述垂線與第II曲線簇中各條曲線的交點(diǎn),確定各交點(diǎn)對(duì)應(yīng)的通過FET的電流值,以FET溝道溫度為縱坐標(biāo),以通過FET的電流值為橫坐標(biāo),繪制FET溝道溫度-通過FET的電流值的平滑線散點(diǎn)圖;
將FET耗散功率-通過FET的電流值的曲線,F(xiàn)ET溝道溫度-通過FET的電流值的曲線繪制在同一坐標(biāo)系中,得到橫坐標(biāo)為通過FET的電流值,縱坐標(biāo)分別為FET溝道溫度,以及,F(xiàn)ET耗散功率的雙縱坐標(biāo)平滑線散點(diǎn)圖;
利用所述雙縱坐標(biāo)平滑線散點(diǎn)圖,以通過FET的電流值為媒介,建立FET溝道溫度與FET耗散功率之間的關(guān)系,以FET溝道溫度為縱坐標(biāo),以FET好散功率為橫坐標(biāo),繪制FET溝道溫度-FET耗散功率的平滑線散點(diǎn)圖;
當(dāng)已知FET耗散功率時(shí),即能夠在所述FET溝道溫度-FET耗散功率的平滑線散點(diǎn)圖的曲線上描出一個(gè)定點(diǎn),所述定點(diǎn)的縱坐標(biāo)即為FET溝道溫度。
作為優(yōu)選,所述選擇在FET的柵端施加的直流偏置電壓值包括:
設(shè)定高低溫探針臺(tái)的基準(zhǔn)溫度;
當(dāng)高低溫探針臺(tái)的溫度升至所述基準(zhǔn)溫度時(shí),連續(xù)改變施加在FET柵端的直流偏置電壓值,利用所述脈沖分析儀得到通過FET的飽和電流值;
在同一坐標(biāo)系中,以通過FET的電流值為縱坐標(biāo),以漏端脈沖電壓為橫坐標(biāo),繪制施加于FET柵端的直流偏置電壓值不同的條件下,通過FET的電流值-漏端脈沖電壓值的平滑線散點(diǎn)圖,所述通過FET的電流值-漏端脈沖電壓值的平滑線散點(diǎn)圖中的每條曲線對(duì)應(yīng)一個(gè)直流偏置電壓值;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)科學(xué)院微電子研究所,未經(jīng)中國(guó)科學(xué)院微電子研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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