[發明專利]用于光刻設備的預對準裝置有效
| 申請號: | 201110222168.3 | 申請日: | 2011-08-04 |
| 公開(公告)號: | CN102914951A | 公開(公告)日: | 2013-02-06 |
| 發明(設計)人: | 胡松立;姜杰 | 申請(專利權)人: | 上海微電子裝備有限公司 |
| 主分類號: | G03F9/00 | 分類號: | G03F9/00;G03F7/20;H01L21/68;H01L21/00 |
| 代理公司: | 北京連和連知識產權代理有限公司 11278 | 代理人: | 王光輝 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 光刻 設備 對準 裝置 | ||
1.一種用于光刻設備的預對準裝置,用于實現硅片傳輸中的預對準,包括溫度穩定單元及用于支撐所述溫度穩定單元的差分調平單元,定向吸盤單元及用于驅動所述定向吸盤單元運動的第一運動機構,定心吸盤單元及用于驅動所述定心吸盤單元運動的第二運動機構;其特征在于,所述溫度穩定單元的中心貫通設有一內孔供定向吸盤單元和定心吸盤單元穿過,所述定向吸盤單元位于所述溫度穩定單元內孔中心位置處,所述定心吸盤單元位于所述溫度穩定單元與定向吸盤單元之間。
2.如權利要求1所述的預對準裝置,其特征在于,所述預對準裝置還包括一硅片邊緣數據采集處理裝置。
3.如權利要求1所述的預對準裝置,其特征在于,所述定心吸盤為半圓形狀且包圍所述定向吸盤。
4.如權利要求1所述的預對準裝置,其特征在于,所述溫度穩定單元包括位于下層的水冷盤及位于上層的氣浮盤。
5.如權利要求4所述的預對準裝置,其特征在于,所述溫度穩定單元還包括多個溫度傳感器,所述溫度傳感器均勻分布于所述溫度穩定單元上;所述溫度穩定單元還包括至少一個硅片存在傳感器。
6.如權利要求1所述的預對準裝置,其特征在于,所述差分調平單元包括依次連接的底座、差分螺母、導向桿、球頭銷和球窩,所述差分螺母的兩端分別通過螺距不同的螺紋與導向桿、底座相配合實現上下差分運動,所述球窩固定安裝于硅片溫度穩定裝置底部。
7.如權利要求6所述的預對準裝置,其特征在于,所述差分螺母與導向桿、底座之間分別通過一鎖緊螺母固定,所述球窩與球頭銷之間通過一鎖緊環鎖緊。
8.如權利要求1所述的預對準裝置,其特征在于,所述第一運動機構包括一Z向運動臺及一θ向運動臺,所述Z向運動臺用于提供沿Z向運動,所述θ向運動臺用于提供沿θ向運動。
9.如權利要求1所述的預對準裝置,其特征在于,所述第二運動機構包括X向運動臺及一V向運動臺,所述X向運動臺及V向運動臺均為由直線電機驅動的直線運動臺。
10.如權利要求9所述的預對準裝置,其特征在于,所述V向運動臺還包括一重力補償元件用以抵消V向運動負載重力。
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